[發明專利]薄膜太陽能玻璃基板制絨設備的制絨部件無效
| 申請號: | 201210130616.1 | 申請日: | 2012-04-28 |
| 公開(公告)號: | CN102709380A | 公開(公告)日: | 2012-10-03 |
| 發明(設計)人: | 杜虎明;岳軍;苗岱;楊杰;衛曉沖;張峰;康冬妮;賈娟芳 | 申請(專利權)人: | 中國電子科技集團公司第二研究所 |
| 主分類號: | H01L31/18 | 分類號: | H01L31/18;C30B33/10 |
| 代理公司: | 山西科貝律師事務所 14106 | 代理人: | 陳奇 |
| 地址: | 030024 *** | 國省代碼: | 山西;14 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 薄膜 太陽能 玻璃 基板制絨 設備 部件 | ||
技術領域
本發明涉及一種薄膜太陽能玻璃基板的制絨設備,特別涉及一種薄膜太陽能玻璃基板制絨設備中的制絨部件。?
背景技術
目前,可再生能源的利用成為了未來能源發展的新趨勢。光電能源與其他可再生能源比較,具有較大的潛力,近年來得到迅速的發展。作為光電能源的基礎部件的薄膜電池由于原料消耗少和襯底成本低,在光伏電池領域中所占比重在不斷的地上升。玻璃基板制絨設備作為薄膜電池制造行業中的關鍵設備,完成在玻璃襯底上面制備ZnO薄膜的制絨過程,是提高電池光電轉換效率的主要設備。現有的薄膜玻璃基板表面制絨設備是通過手工操作完成在小尺寸的玻璃基板上制絨,存在自動化程度低,刻蝕質量差,制絨薄厚不均勻和無法實現自動化生產的問題。?
發明內容
本發明提供了一種薄膜太陽能玻璃基板制絨設備的制絨部件,解決了現有設備存在的自動化程度低,刻蝕質量差,制絨薄厚不均勻和無法實現自動化生產的問題。?
本發明解決其技術問題所采用的技術方案是:?
一種薄膜太陽能玻璃基板制絨設備的制絨部件,包括PLC和矩形底槽,在矩形底槽中套接有架高的刻蝕槽,刻蝕槽由前擋板、后檔板、左制絨液高度調節板、右制絨液高度調節板和刻蝕槽底板組成封閉的刻蝕區域,在刻蝕槽的底部設置有骨架,在骨架上設置有勻水板,在勻水板上均布有孔洞,在刻蝕槽底板設置有刻蝕液底部入口,刻蝕液底部入口與刻蝕液下入液管的一端連通,刻蝕液下入液管的另一端與入液總管連通,在勻水板上方從左到右依次設置有傳送薄膜玻璃基板的接入輥、輥輪組和送出輥,輥輪組通過驅動皮帶與輥輪組驅動電機機械連接在一起,在輥輪組的上方設置有刻蝕液噴淋管,在刻蝕液噴淋管中設置有手動調節流量閥,刻蝕液噴淋管與刻蝕液上入液管的一端連通,刻蝕液上入液管的另一端與入液總管連通,在刻蝕液上入液管中設置有入液電磁調節閥,在矩形底槽的底部設置有動態排液管,在動態排液管上設置有排液電磁調節閥,輥輪組驅動電機、入液電磁調節閥和排液電磁調節閥均分別與PLC電連接。
在輥輪組的上方設置的刻蝕液噴淋管包括設置有左手動調節流量閥的左噴淋管、設置有右手動調節流量閥的中噴淋管和設置有右手動調節流量閥的右噴淋管,左噴淋管通過刻蝕液左上入液管與入液總管連通,右噴淋管通過右上入液管與入液總管連通,中噴淋管通過中上入液管與入液總管連通,在左上入液管上設置有左入液電磁調節閥,在右上入液管上設置有右入液電磁調節閥,在中上入液管上設置有中入液電磁調節閥,左入液電磁調節閥、右入液電磁調節閥和中入液電磁調節閥均分別與PLC電連接。?
所述的刻蝕液噴淋管上套接有封閉的方柱罩,在方柱罩的底板上設置有一字形的噴液縫,刻蝕液通過該噴液縫以與左右水平方向成45度角的向下方向向刻蝕槽中的刻蝕區域噴射所述的刻蝕液。?
本發明為薄膜玻璃基板制絨的自動化生產提供了實現的最基本設備,可自動調節制絨的薄厚,提高了刻蝕質量和成品率。?
附圖說明
圖1是本發明的結構示意圖。?
具體實施方式
下面結合附圖詳細敘述本發明的具體實施方式:?
一種薄膜太陽能玻璃基板制絨設備的制絨部件,包括PLC和矩形底槽1,在矩形底槽1中套接有架高的刻蝕槽2,在刻蝕槽2的外底面與矩形底槽1的內底面之間形成刻蝕液排出區域,刻蝕槽2由前擋板3、后檔板4、左制絨液高度調節板5、右制絨液高度調節板6和刻蝕槽底板組成封閉的刻蝕區域,在刻蝕槽2的底部設置有骨架11,在骨架11上設置有勻水板12,在勻水板12上均布有孔洞,在刻蝕槽底板設置有刻蝕液底部入口,刻蝕液底部入口與刻蝕液下入液管9的一端連通,刻蝕液下入液管9的另一端與入液總管10連通,使刻蝕液從下面通過勻水板12均勻進入到刻蝕區域中,在勻水板12上方從左到右依次設置有傳送薄膜玻璃基板的接入輥7、輥輪組13和送出輥8,輥輪組13通過驅動皮帶14與輥輪組驅動電機機械連接在一起,PLC中的控制程序通過控制輥輪組驅動電機實現對被刻蝕薄膜玻璃的自動通過刻蝕區域的傳輸及實現傳輸速度的控制和調節,在輥輪組13的上方設置有刻蝕液噴淋管,在刻蝕液噴淋管中設置有手動調節流量閥,通過關斷和打開該調節流量閥實現對刻蝕區域的不同區域的噴淋,刻蝕液噴淋管與刻蝕液上入液管的一端連通,刻蝕液上入液管的另一端與入液總管10連通,在刻蝕液上入液管中設置有入液電磁調節閥,在矩形底槽1的底部設置有動態排液管27,在動態排液管27上設置有排液電磁調節閥28,輥輪組驅動電機、入液電磁調節閥和排液電磁調節閥28均分別與PLC電連接。
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H01L 半導體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L31-00 對紅外輻射、光、較短波長的電磁輻射,或微粒輻射敏感的,并且專門適用于把這樣的輻射能轉換為電能的,或者專門適用于通過這樣的輻射進行電能控制的半導體器件;專門適用于制造或處理這些半導體器件或其部件的方法或
H01L31-02 .零部件
H01L31-0248 .以其半導體本體為特征的
H01L31-04 .用作轉換器件的
H01L31-08 .其中的輻射控制通過該器件的電流的,例如光敏電阻器
H01L31-12 .與如在一個共用襯底內或其上形成的,一個或多個電光源,如場致發光光源在結構上相連的,并與其電光源在電氣上或光學上相耦合的





