[發(fā)明專利]噴涂處理位于擋板支架上的板有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210129307.2 | 申請日: | 2004-06-10 | 
| 公開(公告)號(hào): | CN102674703A | 公開(公告)日: | 2012-09-19 | 
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | C·納瓦羅;S·布拉西;J·巴托尼切克 | 申請(專利權(quán))人: | 法國圣戈班玻璃廠 | 
| 主分類號(hào): | C03C17/00 | 分類號(hào): | C03C17/00;C03C17/245;B32B17/06 | 
| 代理公司: | 中國專利代理(香港)有限公司 72001 | 代理人: | 段家榮;高旭軼 | 
| 地址: | 法國*** | 國省代碼: | 法國;FR | 
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 | 
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 噴涂 處理 位于 擋板 架上 | ||
本申請是國際申請日為2004年6月10日(國際申請?zhí)枮镻CT/FR2004/050222)、進(jìn)入國家階段申請?zhí)枮?00480016541.8、發(fā)明名稱為“噴涂處理位于擋板支架上的板”的申請的分案申請。
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及通過噴涂液體、粉狀固體或氣體材料處理板表面從而顯著減輕邊緣效應(yīng)的方法。本發(fā)明更具體適用于沉積薄層,比如熱沉積或冷沉積(尤其是等離子體增強(qiáng)沉積),尤其適用于熱解沉積,在熱解沉積中噴涂膜的至少一種層的前體,所述前體是氣體、液體或粉狀固體。本發(fā)明首先涉及蒸汽的化學(xué)沉積(CVD化學(xué)氣相沉積),具體適用于SnO2尤其是氟摻雜的SnO2(SnO2:F)的CVD沉積。
本發(fā)明對在通過噴涂氣體、液體或粉狀固體材料處理板表面時(shí)出現(xiàn)的邊緣效應(yīng)問題提供了解決方案。這是因?yàn)轱@然這種處理沿著邊界不會(huì)均勻,導(dǎo)致板在靠近其邊緣處和其主表面內(nèi)部的性能存在很大差異。本發(fā)明通過將板放置在至少一個(gè)比該待處理板大的支架上來解決這個(gè)問題,使得在板邊緣處和主表面內(nèi)部的噴涂材料處理相同。支架可以認(rèn)為是延展了板,使邊緣和中心處的處理?xiàng)l件基本相同或者至少比較相似。本發(fā)明通過使支架充當(dāng)所噴涂的材料的擋板獲得了這種效果。支架以和板自身相同的方式充當(dāng)擋板,使板延展,就好像板是無限大一樣。
背景技術(shù)
在板玻璃連續(xù)帶制造后直接進(jìn)行CVD沉積是公知的,其中板玻璃通常由浮法玻璃設(shè)備制備。當(dāng)玻璃帶仍處于未切割狀態(tài)而且在輥床上傳送時(shí)進(jìn)行沉積。將玻璃帶切成各種板以后,通常發(fā)現(xiàn)得到的薄層在外觀和厚度上都非常均勻,包括在近空心和邊緣處。由于玻璃帶的縱向條是在CVD沉積后切割的,所以邊緣處的任何不均勻現(xiàn)象都不是問題,因?yàn)檫@些邊緣無論如何都在切割操作中去除了。眾所周知,通常玻璃是在輥床上運(yùn)輸時(shí)連續(xù)切割的。用于在輥上傳送的系統(tǒng)是在玻璃工業(yè)中廣泛用于傳送玻璃板的系統(tǒng)。
在下文中,術(shù)語“板(panneau)”是指具有兩個(gè)平行主表面和較小尺寸的邊的物體,邊的尺寸小于主表面的長度和寬度,主表面的長度和寬度都有限。因此,正從浮法玻璃設(shè)備上下來的連續(xù)玻璃帶就不是板,因?yàn)樗拈L度沒有限定。而切割連續(xù)玻璃帶得到的玻璃板是板。板厚度可以是例如1-10mm。板在所有平行其主表面的方向上,可以具有大于10cm,或者甚至大于20cm的一維尺寸。在所有平行其主表面的方向上,其尺寸通常達(dá)到150cm。
在連續(xù)玻璃帶上進(jìn)行CVD沉積是公知技術(shù)。但是,也希望在具有固定尺寸的板(或板)上,比如已經(jīng)切割的玻璃板上,進(jìn)行CVD沉積。這種要求可能出現(xiàn)在例如下列具體情況:
如果在正從生產(chǎn)設(shè)備上下來的連續(xù)玻璃帶上方?jīng)]有可以直接安裝CVD沉積設(shè)備的空間;或
如果希望制備在其每個(gè)面上都沉積了CVD涂層的板,其中一個(gè)面上的沉積是連續(xù)進(jìn)行的,那么將玻璃帶切成板,然后在另一面上進(jìn)行“返工式”的CVD沉積;或
出于任何其它原因,需要在板進(jìn)行沉積。
但是,申請人已經(jīng)發(fā)現(xiàn),當(dāng)板在輥上運(yùn)輸?shù)臅r(shí)候?qū)ζ溥M(jìn)行CVD沉積,所沉積的涂層在邊緣附近并不均勻。可能是因?yàn)榘宄叽缬邢蓿瑢?dǎo)致氣體在靠近邊緣處的流動(dòng)由于氣體可以通過板之間和輥之間而受到干擾。這種襯底表面的不連續(xù)會(huì)導(dǎo)致在一方面板表面的主要部分和另一方面其邊緣之間的沉積條件存在著差異。這種不均勻性是顯而易見的,體現(xiàn)在顏色不均勻(裸眼可以分辨)和厚度不均勻上。申請人已經(jīng)發(fā)現(xiàn),將待涂板放在支架尤其是基本上不透氣的支架上,可以恢復(fù)邊緣處的正確沉積條件,其中所述支架充當(dāng)CVD氣體的擋板。支架的尺寸(寬度和長度)必須大于板,迫使板附近的氣體在其平行于板的路徑持續(xù)一定距離,優(yōu)選至少4cm。這個(gè)問題雖然是在CVD沉積的情況下詳細(xì)說明的,但對任何通過噴涂液體、粉狀固體或氣體材料處理板都具有普遍意義。
發(fā)明內(nèi)容
因此,本發(fā)明首先涉及通過噴涂氣體、液體或粉狀固體材料處理放置于至少一個(gè)支架上的至少一個(gè)板的表面進(jìn)行處理的方法,所述支架延展到板以外,充當(dāng)所噴涂的材料的擋板。通過這種方式,在整個(gè)接受處理的主表面上的處理基本相同,也就是說,在所述板主表面的邊緣和更內(nèi)部區(qū)域上相同。根據(jù)本發(fā)明,迫使所噴涂的材料在所述板的所有邊緣附近都沿著和該板平行的方向,包括到所述板之外(也就是說尤其是圖1中的d1區(qū)域)。具體而言,材料基本上沿著垂直于板的方向噴涂,支架迫使所噴涂的材料在所述板附近采取和所述板平行的方向。通常,材料通過和待處理板相對設(shè)置的至少一個(gè)噴嘴噴涂。通常,該噴嘴將材料垂直向下噴到水平放置的板上。通常,氣體承載待噴涂的材料。
具體實(shí)施方式
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于法國圣戈班玻璃廠,未經(jīng)法國圣戈班玻璃廠許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請聯(lián)系【客服】
本文鏈接:http://www.szxzyx.cn/pat/books/201210129307.2/2.html,轉(zhuǎn)載請聲明來源鉆瓜專利網(wǎng)。





