[發明專利]鏡頭陰影校正系數確定方法、鏡頭陰影校正方法及裝置

有效

• 申請號: 201210127945.0
• 申請日: 2012-04-27
• 公開（公告）號: CN103377474A
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發明（設計）人: 王毫杰;申冬;彭茂;胡文閣
• 申請（專利權）人: 比亞迪股份有限公司
• 主分類號: G06T7/00
• 分類號: G06T7/00;H04N9/04
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.?一種鏡頭陰影校正系數確定方法，其特征在于，包括：

獲取灰度圖像上每個像素點的參考校正系數；

由所獲取的參考校正系數生成像素點坐標平面上的二維校正曲面；?

第一次曲線擬合：對二維校正曲面上的每一行進行一元高次冪多項式擬合，得到所述參考校正系數的一元高次冪多項式；?

第二次曲線擬合：對第一次曲線擬合所獲得的一元高次冪多項式的相同高次冪的擬合系數再次進行一元高次冪多項式擬合，得到相同高次冪的擬合系數的一元高次冪多項式；

根據所述參考校正系數的一元高次冪多項式和相同高次冪的擬合系數的一元高次冪多項式計算出每個像素點坐標對應的鏡頭陰影校正系數。

2.?如權利要求1所述的鏡頭陰影校正系數確定方法，其特征在于，所述獲取圖像上每個像素點的參考校正系數具體為：用鏡頭拍攝一幅亮度分布均勻的灰度圖像后得到拍攝圖像的各像素點的真實像素值，選擇所述灰度圖像中最亮點為標準值，并計算該標準值與拍攝圖像的各像素點的真實像素值的比值，得到每個像素點的參考校正系數。

3.如權利要求1所述的鏡頭陰影校正系數確定方法，其特征在于，所述由所獲取的參考校正系數生成像素點坐標平面上的二維校正曲面具體為：根據每個像素點的橫坐標、縱坐標以及參考校正系數生成像素點坐標平面上的二維校正曲面。

4.?如權利要求1所述的鏡頭陰影校正系數確定方法，其特征在于，所述對二維校正曲面上的每一行進行一元高次冪多項式擬合具體為：設置以像素點縱坐標為變量的一元高次冪多項式，確定縱坐標的擬合系數，得到參考校正系數的一元高次冪多項式。

5.?如權利要求1所述的鏡頭陰影校正系數確定方法，其特征在于，所述對第一次曲線擬合所獲得的一元高次冪多項式的相同高次冪的擬合系數再次進行一元高次冪多項式擬合具體為：設置以像素點橫坐標為變量的一元高次冪多項式，確定橫坐標的擬合系數，得到相同高次冪的擬合系數的一元高次冪多項式。

6.?如權利要求1所述的鏡頭陰影校正系數確定方法，其特征在于，所述根據所述參考校正系數的一元高次冪多項式和相同高次冪的擬合系數的一元高次冪多項式計算出每個像素點坐標對應的鏡頭陰影校正系數具體為：根據每個像素點的橫坐標計算出每行的高次冪的擬合系數，然后根據高次冪的擬合系數以及每個像素點縱坐標計算出與每個像素點坐標對應的鏡頭陰影校正系數。

7.?如權利要求1至6任一項所述的鏡頭陰影校正系數確定方法，其特征在于，所述參考校正系數的一元高次冪多項式公式為：

C(x,y)?=?Ax_n*yⁿ?+?…?+?Ax₁*y?+?Ax₀；?

其中C（x，y）為第x行參考校正系數；

Ax_n……Ax₁，Ax₀為第x行擬合曲線的多項式系數，即縱坐標的擬合系數；

y為像素點的縱坐標；

n為高次冪數。

8.?如權利要求7所述的鏡頭陰影校正系數確定方法，其特征在于，所述n?的取值范圍為2-5。

9.?如權利要求8所述的鏡頭陰影校正系數確定方法，其特征在于，所述n?的取值為4。

10.?如權利要求7所述的鏡頭陰影校正系數確定方法，其特征在于，所述擬合系數的一元高次冪多項式公式為：?

A(i,x)=Bi_m*x^m+…+Bi₁*x¹+Bi₀；

其中,A(i,x)?為第x行擬合曲線的多項式中的i次冪的系數，1≤i≤n；

Bi_m……Bi₁，Bi₀為i次冪的系數的擬合曲線的多項式系數，?即橫坐標的擬合系數；

x為像素點的橫坐標；

m為i次冪的系數的擬合曲線高次冪數。

11.?如權利要求10所述的鏡頭陰影校正系數確定方法，其特征在于，所述m的取值范圍為2-5。

12.?如權利要求11所述的鏡頭陰影校正系數確定方法，其特征在于，所述m的取值為3。