[發(fā)明專利]對(duì)焦位置調(diào)整方法、對(duì)焦位置調(diào)整裝置、及激光加工裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210127349.2 | 申請(qǐng)日: | 2012-04-26 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102896420A | 公開(kāi)(公告)日: | 2013-01-30 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 栗山 規(guī)由;時(shí)本 育往 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 三星鉆石工業(yè)股份有限公司 |
| 主分類號(hào): | B23K26/04 | 分類號(hào): | B23K26/04;B23K26/03 |
| 代理公司: | 北京律盟知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限責(zé)任公司 11287 | 代理人: | 沈錦華 |
| 地址: | 日本國(guó)大阪府*** | 國(guó)省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 對(duì)焦 位置 調(diào)整 方法 裝置 激光 加工 | ||
1.一種對(duì)焦位置調(diào)整方法,其特征在于:其以于觀察對(duì)象物中格子狀地存在的對(duì)焦對(duì)象區(qū)域成為對(duì)焦?fàn)顟B(tài)的方式,調(diào)整觀察光學(xué)系統(tǒng)中具備的對(duì)焦機(jī)構(gòu)的對(duì)焦位置,且包括:
保持步驟,其使所述觀察對(duì)象物保持于特定的保持機(jī)構(gòu);
圖案投影步驟,其對(duì)具有第一遮光圖案及第二遮光圖案的十字狀的遮光圖案,將以所述對(duì)焦對(duì)象區(qū)域的一格點(diǎn)為中心的十字狀區(qū)域作為投影范圍進(jìn)行投影,所述第一遮光圖案使多個(gè)單位遮光區(qū)域沿第一方向等間隔排列而成,所述第二遮光圖案設(shè)置在與所述第一方向正交的第二方向上;
攝像步驟,其于已投影所述遮光圖案的狀態(tài)下,使所述一格點(diǎn)與圖像中央吻合而由所述觀察光學(xué)系統(tǒng)中具備的攝像機(jī)構(gòu)對(duì)包含所述投影范圍的區(qū)域進(jìn)行攝像;
最大對(duì)比度位置特定步驟,其基于所述攝像圖像來(lái)特定所述第一遮光圖案的對(duì)比度成為最大的最大對(duì)比度位置;及
對(duì)焦位置調(diào)整步驟,其調(diào)整所述對(duì)焦機(jī)構(gòu)的對(duì)焦位置;且
在所述圖案投影步驟中,以如下方式將所述遮光圖案投影至所述十字狀區(qū)域,即,使所述遮光圖案相對(duì)于所述觀察光學(xué)系統(tǒng)的光軸傾斜而配置,所述第一遮光圖案的多個(gè)單位遮光區(qū)域的各自的成像位置成為不同的高度位置,且所述第二遮光圖案在一個(gè)高度位置成像;
所述對(duì)焦位置調(diào)整步驟選擇性地進(jìn)行:
第一對(duì)焦位置調(diào)整步驟,其在所述最大對(duì)比度位置特定步驟中可特定所述最大對(duì)比度位置的情況下,基于所述最大對(duì)比度位置與所述一格點(diǎn)的位置的距離來(lái)調(diào)整所述對(duì)焦機(jī)構(gòu)的對(duì)焦位置,由此使所述對(duì)焦對(duì)象區(qū)域成為對(duì)焦?fàn)顟B(tài);及
第二對(duì)焦位置調(diào)整步驟,其在所述最大對(duì)比度位置特定步驟中無(wú)法特定所述最大對(duì)比度位置的情況下,使所述攝像機(jī)構(gòu)對(duì)改變所述對(duì)焦機(jī)構(gòu)相對(duì)于所述觀察對(duì)象物的配置距離的多個(gè)攝像圖像進(jìn)行攝像,基于所獲得的所述多個(gè)攝像圖像來(lái)特定相對(duì)于所述對(duì)焦機(jī)構(gòu)的配置距離的所述第二遮光圖案的對(duì)比度變化,通過(guò)將所述對(duì)比度變化的極大位置決定為所述對(duì)焦對(duì)象區(qū)域成為對(duì)焦?fàn)顟B(tài)的所述對(duì)焦機(jī)構(gòu)的配置位置,且使所述對(duì)焦機(jī)構(gòu)的對(duì)焦位置與所述極大位置一致,而使所述對(duì)焦對(duì)象區(qū)域成為對(duì)焦?fàn)顟B(tài)。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的對(duì)焦位置調(diào)整方法,其特征在于:
在所述最大對(duì)比度位置特定步驟中無(wú)法特定所述最大對(duì)比度位置、但從所述一格點(diǎn)的位置觀察可特定所述最大對(duì)比度位置存在的方向即對(duì)比度增大方向的情況下,在與所述對(duì)比度增大方向相當(dāng)?shù)某蛏弦蕴囟ň嚯x改變所述對(duì)焦機(jī)構(gòu)相對(duì)于所述觀察對(duì)象物的配置距離之后,重復(fù)進(jìn)行所述攝像步驟、所述最大對(duì)比度位置特定步驟、及所述對(duì)焦位置調(diào)整步驟;
在無(wú)法特定所述最大對(duì)比度增大方向的情況下,進(jìn)行所述第二對(duì)焦位置調(diào)整步驟。
3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述的對(duì)焦位置調(diào)整方法,其特征在于:
在所述最大對(duì)比度位置特定步驟中,
基于累計(jì)亮度分布來(lái)特定所述最大對(duì)比度位置,該累計(jì)亮度分布是對(duì)投影了所述第一遮光圖案的攝像圖像中的沿所述多個(gè)單位遮光區(qū)域的排列方向的每個(gè)像素列的亮度分布進(jìn)行累計(jì)而得。
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B23K 釬焊或脫焊;焊接;用釬焊或焊接方法包覆或鍍敷;局部加熱切割,如火焰切割;用激光束加工
B23K26-00 用激光束加工,例如焊接,切割,打孔
B23K26-02 .工件的定位和觀測(cè),如相對(duì)于沖擊點(diǎn),激光束的對(duì)正,瞄準(zhǔn)或聚焦
B23K26-08 .激光束與工件具有相對(duì)運(yùn)動(dòng)的裝置
B23K26-12 .在一特殊氣氛中,例如在罩中
B23K26-14 .利用流體,如氣體的射流,與激光束相結(jié)合
B23K26-16 .排除副產(chǎn)物,例如對(duì)工件處理時(shí)產(chǎn)生的微粒或蒸氣
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