[發明專利]一種用于改變陰極的電流分布的絕緣涂料

無效

• 申請號: 201210127267.8
• 申請日: 2012-04-27
• 公開（公告）號: CN102653642A
• 公開（公告）日: 2012-09-05
• 發明（設計）人: 楊建紅;張剛;張艷偉;邱仕麟;李旺興;喬佳
• 申請（專利權）人: 中國鋁業股份有限公司
• 主分類號: C09D5/25
• 分類號: C09D5/25;C09D183/00;C09D177/00;C09D163/00;C09D7/12;C25C3/08
• 代理公司: 中國有色金屬工業專利中心 11028
• 代理人: 李迎春;李子健

1.用于改變陰極的電流分布的絕緣涂料，其特征在于其原料的配料包括：為成膜物質的樹脂、顏填料和助劑。

2.根據權利要求1所述的用于改變陰極的電流分布的絕緣涂料，其特征在于所述的原料的配料中為樹脂的成膜物質重量配比為33-45.7wt%、顏填料的重量配比為50-60wt%，余量為助劑。

3.根據權利要求1所述的用于改變陰極的電流分布的絕緣涂料，其特征在于所述的為成膜物質的樹脂為有機硅樹脂和聚酰胺樹脂的混合物，其混合重量比為?(1.7-1.8）:1。

4.根據權利要求1所述的用于改變陰極的電流分布的絕緣涂料，其特征在于所述的為成膜物質的樹脂為環氧樹脂E-44和聚酰胺樹脂的混合物，其混合重量比為1.5:1。

5.根據權利要求1所述的用于改變陰極的電流分布的絕緣涂料，其特征在于所述的為成膜物質的樹脂為有機硅樹脂、環氧樹脂E-44和聚酰胺樹脂的混合物，其混合重量比為2.07:1.5:1。

6.根據權利要求1所述的用于改變陰極的電流分布的絕緣涂料，其特征在于所述的顏填料的配比包括：

（1）選自氧化鋁粉、氮化硅粉中的一種或其混合物的A類顏填料；

（2）選自云母粉、滑石粉中的一種或其混合物的B類顏填料；?

（3）選自石棉粉、玻璃粉、鋁粉中的一種或一種以上的其混合物的C類顏填料；

（4）選自TiO₂粉、三聚磷酸鋁、輕質碳酸鈣中的一種或一種以上的其混合物的D類顏填料，

其顏填料A、顏填料B、顏填料C和顏填料D的混合重量配比為(22-26):(10-15):(5-8):(10-15)。

7.根據權利要求1所述的用于改變陰極的電流分布的絕緣涂料，其特征在于所述的顏填料的每類顏填料中采用一種以上的混合物時，它們之間的混合重量比值為1。

8.根據權利要求1所述的用于改變陰極的電流分布的絕緣涂料，其特征在于所述的助劑包括氣相二氧化硅、環烷酸鋅、硅烷偶聯劑、多價羧酸類分散劑，其重量配比為相二氧化硅：環烷酸鋅：硅烷偶聯劑：多價羧酸類分散劑=(3-5):(0.5-1):(0.1:0.3):(0.5-1)；還包括為氣相二氧化硅、環烷酸鋅、硅烷偶聯劑和多價羧酸類分散劑總混合溶劑，其混合溶劑為工業乙醇：丙酮=10：1的混合物。

9.根據權利要求1所述的用于改變陰極的電流分布的絕緣涂料，其特征在于所述的絕緣材料采用噴涂或刷涂方法涂覆在陰極上，涂覆厚度為0.5-2mm，根據厚度要求，采用涂覆2-5次完成。