[發明專利]基于ZnO納米線陣列的壓力傳感器芯片及其制備方法無效
| 申請號: | 201210126095.2 | 申請日: | 2012-04-26 |
| 公開(公告)號: | CN102645294A | 公開(公告)日: | 2012-08-22 |
| 發明(設計)人: | 蔣莊德;許煜;趙立波;趙玉龍 | 申請(專利權)人: | 西安交通大學 |
| 主分類號: | G01L1/18 | 分類號: | G01L1/18;G01L9/06;B81C3/00;B82Y15/00 |
| 代理公司: | 西安通大專利代理有限責任公司 61200 | 代理人: | 田洲 |
| 地址: | 710049 *** | 國省代碼: | 陜西;61 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 基于 zno 納米 陣列 壓力傳感器 芯片 及其 制備 方法 | ||
技術領域
本發明涉及一種基于微機電系統(Micro?Electro?Mechanical?Systems,MEMS)技術的壓力傳感器芯片及其制備方法,特別是一種基于ZnO納米線(ZnO?nanowire)陣列的壓力傳感器芯片及其制備方法。
背景技術
隨著傳感器技術和MEMS技術的不斷進步,有力地促進了壓力測量技術的發展,出現了一些基于MEMS技術的壓力測量新方法。壓電式壓力傳感器就是諸多測量方法中的一種,基于壓電效應的傳感器是一種自發電式和機電轉換式傳感器,它的敏感元件由壓電材料制成。壓電材料受力后表面產生電荷,經電荷放大器、阻抗變換和測量電路放大后輸出與所受外力成正比的電壓信號。它的優點是頻帶寬、靈敏度高、信噪比高、結構簡單、工作可靠和重量輕等。缺點是只能測試動態壓力,一般不能測試靜態壓力,且輸出的直流響應差,需要采用高輸入阻抗電路來克服這一缺陷,此外,壓電材料還需要防潮、隔離處理。
高密度、定向生長的ZnO納米線作為一種具有良好壓電性質的材料,可用來制備高頻纖維聲光器件及聲光調制器等壓電轉換器,還可廣泛應用在大容量、高速率光纖通信的光纖相位調制、反雷達動態測頻、電子偵聽、衛星移動通信、并行光信息處理等領域。ZnO既是半導體又有壓電效應的特點,能夠與金屬產生肖特基接觸,形成勢壘,可解決一般壓電元件需要高輸入阻抗輸出放大電路的問題,為進一步實現壓電式壓力傳感器微型化提供了基礎。
發明內容
本發明的目的在于供一種基于ZnO納米線陣列的壓力傳感器芯片及其制備方法,利用ZnO納米線結構的特點,通過控制ZnO納米線生長成合理的微結構,與金屬形成肖特基接觸,實現電荷積累到釋放過程因而不需要高輸入阻抗輸出的放大電路。
為了實現上述目的,本發明基于ZnO納米線陣列的壓力傳感器芯片的制備方法采用如下技術方案:
一種基于ZnO納米線陣列的壓力傳感器芯片的制備方法,包括制備ZnO納米線壓電元件的步驟、制備C型杯彈性元件的步驟和將ZnO納米線壓電元件和C型杯彈性元件結合的步驟;
制備ZnO納米線壓電元件的步驟:
(1)使用HF溶液清洗雙面拋光的硅片,并將清洗后的硅片置于等離子處理系統中進行表面處理,等離子體處理的時間為5~20分鐘,處理溫度為20~300℃,處理完后進行烘干;
(2)在硅片兩端淀積氮化硅;
(3)利用硅通孔技術在硅片上利用等離子刻蝕出通孔,通孔直徑為20~30μm;
(4)在硅片上和通孔中淀積鈦電極,作為ZnO納米線陣列的下電極,鈦電極厚度為5~10nm,長為2~2.5mm,寬為0.4~0.5mm;
(5)在鈦電極上表面濺射淀積金層,作為ZnO納米線陣列的催化層,金層的厚度為20~50nm,長為2~2.5mm,寬為0.4~0.5mm;
(6)在金層上,用含有鋅離子的堿性溶液作為反應溶液,在100℃下保溫反應4小時,促使ZnO納米線陣列的生長,然后將剩余的金層蒸發,得到ZnO納米線陣列,其長為3~5μm,直徑為200~500nm,并在完成生長后使用丙酮清洗烘干;
(7)在ZnO納米線生長成陣列后,利用注塑工藝將PMDS注入將ZnO納米線陣列包裹;
(8)利用氧離子刻蝕將步驟(7)中注入的PDMS的頂端部分去除,將ZnO納米線陣列的頂端暴露出來,底端ZnO納米線仍包裹在PDMS中;
(9)利用等離子刻蝕將兩端的氮化硅去除,即得到ZnO納米線壓電元件;
制備C型杯彈性元件的步驟:
(1)使用HF溶液清洗雙面拋光的SOI硅片,并將清洗后的SOI硅片置于等離子處理系統中進行表面處理,等離子體處理的時間為5~20分鐘,處理溫度20~300℃,處理完后進行烘干;
(2)雙面淀積氮化硅;
(3)在SOI硅片正面光刻,刻蝕去掉正面中間區域的氮化硅;
(4)采用氫氧化鉀各向異性刻蝕單晶硅,并腐蝕至二氧化硅埋層停止,制作出有效硅膜,C型杯的內部能夠容納ZnO納米線壓電元件的ZnO納米線陣列;
(5)用等離子刻蝕技術刻蝕位于背面的氮化硅;
(6)利用硅通孔技術,在硅片上利用等離子刻蝕出通孔,通孔直徑為20~30μm;
(7)在硅片上和通孔中淀積鉑電極,作為ZnO納米線陣列的上電極,鉑電極厚度為5~10nm,長為3~3.5mm,寬為0.4~0.5mm;制作完成后即得C型杯彈性元件;
將ZnO納米線壓電元件和C型杯彈性元件結合的步驟:
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