[發(fā)明專利]多層基板表面處理層結(jié)構(gòu)及其制造方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210124963.3 | 申請日: | 2007-06-12 |
| 公開(公告)號: | CN102683219A | 公開(公告)日: | 2012-09-19 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 楊之光;邢介琳 | 申請(專利權(quán))人: | 巨擘科技股份有限公司 |
| 主分類號: | H01L21/48 | 分類號: | H01L21/48;H01L23/14 |
| 代理公司: | 上海翼勝專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 31218 | 代理人: | 翟羽 |
| 地址: | 中國臺灣新竹科*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 多層 表面 處理 結(jié)構(gòu) 及其 制造 方法 | ||
1.一種多層基板的表面處理層結(jié)構(gòu)的制造方法,該制造方法包含下列步驟:
于一載板表面形成一焊墊層;
于該焊墊層上形成一介電層,以將該焊墊層內(nèi)嵌于該介電層內(nèi);
將該焊墊層和該介電層從該載板表面分離;
在該焊墊層的表面形成至少一包覆金屬層,該包覆金屬層完全覆蓋于該焊墊層;
形成一防焊層在該多層基板具有該焊墊層的表面;以及?
在該包覆金屬層的位置對該防焊層進(jìn)行開孔,裸露該包覆金屬層。
2.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于:該防焊層覆蓋該包覆金屬層的一部分。
3.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于:在該防焊層所開孔的面積包含該包覆金屬層所占的全部面積。
4.如權(quán)利要求1所述的制造方法,其特征在于:在于該焊墊層上形成該介電層的步驟前,還包括在該焊墊層與該介電層表面間施以一介面附著強(qiáng)化處理的步驟,以增加該焊墊層與該介電層的附著強(qiáng)度。
5.一種多層基板的表面處理層結(jié)構(gòu)的制造方法,該制造方法包含下列步驟:
于一載板表面形成一焊墊層;
于該焊墊層上形成一介電層,以將該焊墊層內(nèi)嵌于該介電層內(nèi);
將該焊墊層和該介電層從該載板表面分離;
形成一防焊層在該多層基板具有該焊墊層的表面;
在對應(yīng)該焊墊層的位置對該防焊層進(jìn)行開孔,以裸露該焊墊層;以及
于該焊墊層的表面形成至少一包覆金屬層,其用以包覆該焊墊層。
6.如權(quán)利要求5所述的制造方法,其特征在于:該防焊層覆蓋該焊墊層的一部分。
7.如權(quán)利要求5所述的制造方法,其特征在于:在該防焊層所開孔的面積包含該焊墊層所占的面積。
8.如權(quán)利要求5所述的制造方法,其特征在于:在于該焊墊層上形成該介電層的步驟前,還包括在該焊墊層與該介電層表面間施以一介面附著強(qiáng)化處理的步驟,以增加該焊墊層與該介電層的附著強(qiáng)度。
9.一種多層基板的表面處理層結(jié)構(gòu)的制造方法,該制造方法包含下列步驟:
于一載板表面形成一防焊層;
于該防焊層上形成一焊墊層;
于該焊墊層上形成一介電層,以將該焊墊層內(nèi)嵌于該介電層內(nèi);
將該防焊層以及該焊墊層和該介電層從該載板表面分離;
在該多層基板的該介電層的表面所內(nèi)嵌的該焊墊層的位置對該防焊層進(jìn)行開孔,以裸露該焊墊層;以及
于該焊墊層的表面形成至少一包覆金屬層,其用以包覆該焊墊層。
10.如權(quán)利要求9所述的制造方法,其特征在于:該防焊層覆蓋該焊墊層的一部分。
11.如權(quán)利要求9所述的制造方法,其特征在于:在該防焊層所開孔的面積包含該焊墊層所占的面積。
12.如權(quán)利要求9所述的制造方法,其特征在于:在于該焊墊層上形成該介電層的步驟前,還包括在該焊墊層與該介電層表面間施以一介面附著強(qiáng)化處理的步驟,以增加該焊墊層與該介電層的附著強(qiáng)度。
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H01L 半導(dǎo)體器件;其他類目中不包括的電固體器件
H01L21-00 專門適用于制造或處理半導(dǎo)體或固體器件或其部件的方法或設(shè)備
H01L21-02 .半導(dǎo)體器件或其部件的制造或處理
H01L21-64 .非專門適用于包含在H01L 31/00至H01L 51/00各組的單個器件所使用的除半導(dǎo)體器件之外的固體器件或其部件的制造或處理
H01L21-66 .在制造或處理過程中的測試或測量
H01L21-67 .專門適用于在制造或處理過程中處理半導(dǎo)體或電固體器件的裝置;專門適合于在半導(dǎo)體或電固體器件或部件的制造或處理過程中處理晶片的裝置
H01L21-70 .由在一共用基片內(nèi)或其上形成的多個固態(tài)組件或集成電路組成的器件或其部件的制造或處理;集成電路器件或其特殊部件的制造
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