[發明專利]制造異地可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃的方法有效
| 申請號： | 201210124827.4 | 申請日： | 2012-04-26 |
| 公開（公告）號： | CN103374704B | 公開（公告）日： | 2016-11-02 |
| 發明（設計）人： | 楊宏斌;李忠祥;康延坡 | 申請（專利權）人： | 北京物華天寶鍍膜科技有限公司 |
| 主分類號： | C23C14/34 | 分類號： | C23C14/34;C23C14/06;C23C14/08;C23C14/14;C03C17/36 |
| 代理公司： | 北京立成智業專利代理事務所(普通合伙) 11310 | 代理人： | 張江涵 |
| 地址： | 100000 北京*** | 國省代碼： | 北京;11 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 制造 異地 可鋼化雙銀低 輻射 鍍膜 玻璃 方法 | ||
【權利要求書】：
1.一種制造異地可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃的方法，其特征在于，包括以下步驟，
鍍基層復合介質層，Si3N4工作氣壓控制在在3-5mbar，功率為30-50KW；ZnO在氧氬氣之比為1∶30的氛圍中沉積，功率為5kw-30kw；
鍍第一阻擋層，在純氬氛圍中濺射鎳鉻合金，功率為3kw-15kw；
鍍第一銀層，在純氬氣氛圍中沉積，功率為2kw-15kw；
鍍中層介質層，功率為30kw-80kw；
鍍第二阻擋層，在純氬氛圍中濺射鎳鉻合金，功率為3kw-15kw；
鍍第二銀層，在純氬氣氛圍中沉積，功率為2kw-15kw。
鍍頂層，功率為15kw-60kw。
2.如權利要求1所述的制造異地可鋼化雙銀低輻射鍍膜玻璃的方法，其特征在于：所述基層復合介質層包含Si3N4和ZnO；所述第一銀層包含Ag；所述第一阻擋層和第二阻擋層包含Cr、NiCr或Ti；所述中層復合介質層包含Si3N4和ZnO；所述第二銀層包含Ag；所述復合頂層包含Si3N4或SnO2、TiO2。
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