[發明專利]化學氣相沉積系統無效
| 申請號: | 201210124576.X | 申請日: | 2012-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN103374709A | 公開(公告)日: | 2013-10-30 |
| 發明(設計)人: | 方建中;楊成傑;鄭祥炬 | 申請(專利權)人: | 綠種子材料科技股份有限公司 |
| 主分類號: | C23C16/44 | 分類號: | C23C16/44;C23C16/458;C23C16/46 |
| 代理公司: | 北京律誠同業知識產權代理有限公司 11006 | 代理人: | 梁揮;常大軍 |
| 地址: | 中國臺灣臺北市信*** | 國省代碼: | 中國臺灣;71 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 化學 沉積 系統 | ||
1.一種化學氣相沉積系統,其特征在于,包含:
一反應腔體;
一載盤,設置于該反應腔體中,具有一第一表面及一相對于該第一表面的第二表面,該第一表面用以承載至少一基板;
一加熱器,設置于該反應腔體中并面向該第二表面,用以加熱該至少一基板;及
一支撐座,用以支撐該載盤,
其中,該支撐座中設有一冷卻氣體通道,且該支撐座上設有至少一出氣孔,該至少一出氣孔位于該第二表面的同一側,并連通該冷卻氣體通道以供一冷卻氣體流通。
2.根據權利要求1所述的化學氣相沉積系統,其特征在于,該至少一出氣孔包括至少一第一出氣孔及至少一第二出氣孔,該至少一第一出氣孔設置于鄰近該加熱器的該支撐座上,該至少一第二出氣孔設置于相對該至少一第一出氣孔遠離該載盤的該支撐座上。
3.根據權利要求2所述的化學氣相沉積系統,其特征在于,還包含至少一隔熱板,且該加熱器位于該隔熱板及該載盤之間。
4.根據權利要求3所述的化學氣相沉積系統,其特征在于,該至少一第二出氣孔設置于鄰近該隔熱板的該支撐座上。
5.根據權利要求1所述的化學氣相沉積系統,其特征在于,還包含一出氣孔控制模塊,用以控制該至少一出氣孔的開啟與關閉。
6.根據權利要求5所述的化學氣相沉積系統,其特征在于,該出氣孔控制模塊包含有:
一移動件,設于該冷卻氣體通道中,可于該冷卻氣體通道中移動而選擇開啟或關閉該至少一出氣孔;
一支撐桿,其一端連接該移動件,用以移動該移動件;及
一驅動裝置,連接該支撐桿的另一端,用以提供該支撐桿動力。
7.根據權利要求6所述的化學氣相沉積系統,其特征在于,該移動件的外直徑等于該冷卻氣體通道的內直徑。
8.根據權利要求6所述的化學氣相沉積系統,其特征在于,該移動件設有至少一通氣孔,供該冷卻氣體通過。
9.根據權利要求6所述的化學氣相沉積系統,其特征在于,該支撐座中設有至少一反應氣體通道。
10.根據權利要求9所述的化學氣相沉積系統,其特征在于,該反應氣體通道貫通該支撐座的軸心,該冷卻氣體通道則圍繞設置于該反應氣體通道外側。
11.根據權利要求10所述的化學氣相沉積系統,其特征在于,該移動件為環形態樣,且圍繞該反應氣體通道。
12.根據權利要求9所述的化學氣相沉積系統,其特征在于,該反應氣體通道圍繞該冷卻氣體通道設置。
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C23C 對金屬材料的鍍覆;用金屬材料對材料的鍍覆;表面擴散法,化學轉化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發法、濺射法、離子注入法或化學氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過氣態化合物分解且表面材料的反應產物不留存于鍍層中的化學鍍覆,例如化學氣相沉積
C23C16-01 .在臨時基體上,例如在隨后通過浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無機材料為特征的





