[發明專利]多光束陣列光誘導反射率成像裝置及方法

有效

• 申請號: 201210123617.3
• 申請日: 2012-04-25
• 公開（公告）號: CN102721673A
• 公開（公告）日: 2012-10-10
• 發明（設計）人: 吳周令;陳堅
• 申請（專利權）人: 吳周令
• 主分類號: G01N21/63
• 分類號: G01N21/63
• 代理公司: 合肥天明專利事務所 34115
• 代理人: 金凱

1.多光束陣列光誘導反射率成像裝置，包括泵浦光源、探測光源、光電探測器、與泵浦光源和探測光源對應的樣品臺，其特征在于：從泵浦光源至樣品臺之間依次設置有泵浦光衍射分光裝置、陣列調制器、分色鏡和聚焦成像透鏡；從探測光源至樣品臺之間依次設置有探測光衍射分光裝置、偏振分光鏡、四分之一波片、所述的分色鏡和所述的聚焦成像透鏡；所述的光電探測器設置于偏振分光鏡的后端，從所述的偏振分光鏡至光電探測器之間設置有探測光聚焦透鏡和探測光濾光裝置。

2.根據權利要求1所述的多光束陣列光誘導反射率成像裝置，其特征在于：所述的泵浦光源選用激光光源或單色光光源；所述的探測光源選用激光光源或單色光光源。

3.根據權利要求1所述的多光束陣列光誘導反射率成像裝置，其特征在于：所述的泵浦光衍射分光裝置和探測光衍射分光裝置均可選用位相型分光光柵。

4.多光束陣列光誘導反射率成像方法，其特征在于：包括以下步驟：

（1）、將被測樣品至于樣品臺上；

（2）、泵浦光源發出的泵浦光束，泵浦光束經過泵浦光衍射分光裝置后被分為呈陣列分布的光束組，光束組經過陣列光調制器后被調制，并且其中每一束光的調制頻率各不相同，調制后的泵浦光束組由分色鏡反射、并通過聚焦成像透鏡聚焦后照射到放置于樣品臺上的被測樣品的表面；

（3）、探測光源發出的探測光束，經過探測光衍射分光裝置后被分為呈陣列分布的探測光束組，探測光束組依次經過偏振分光鏡、四分之一波片和分色鏡后，由聚焦成像透鏡會聚到被測樣品表面，并且與聚焦后的泵浦光束組在被測樣品表面重合，泵浦光束組在樣品表面對應區域激發局部溫度變化，從而引起被測樣品對探測光束反射率的變化，每一束探測光都對應與泵浦光束組中的一束泵浦光重合；

（4）、由被測樣品表面反射的探測光束組再依次經過聚焦成像透鏡、分色鏡和四分之一波片后，再經偏振分光鏡反射后，由探測光聚焦透鏡會聚、并經過探測光濾光裝置后進入光電探測器；

（5）、光電探測器獲得的光誘導反射率信號含有不同調制頻率下的光熱反射率信號，分別代表來自樣品上不同探測光所對應的區域的信號，這些信號通過后續數據處理，得到樣品表面的二維光熱反射率圖像。