[發明專利]導電元件的制備裝置及制備方法有效
| 申請號: | 201210122625.6 | 申請日: | 2012-04-25 |
| 公開(公告)號: | CN103377774A | 公開(公告)日: | 2013-10-30 |
| 發明(設計)人: | 馮辰;潛力;王昱權 | 申請(專利權)人: | 北京富納特創新科技有限公司 |
| 主分類號: | H01B13/00 | 分類號: | H01B13/00;H01B5/14;H01B1/04 |
| 代理公司: | 暫無信息 | 代理人: | 暫無信息 |
| 地址: | 100084 北京市海*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 導電 元件 制備 裝置 方法 | ||
1.一種導電元件的制備裝置,其包括:
一初始碳納米管膜供給單元,該初始碳納米管膜供給單元用于連續提供一初始碳納米管膜;
一圖案化處理單元,該圖案化處理單元用于在所述初始碳納米管膜上進行圖案化處理,使該初始碳納米管膜形成至少一行通孔,且每行上至少有兩個間隔設置的通孔;
一溶劑處理單元,該溶劑處理單元用于對經過圖案化處理的初始碳納米管膜進行溶劑處理,使該經過圖案化處理的初始碳納米管膜收縮形成一碳納米管層;
一基底供給單元,該基底供給單元用于連續提供一基底;
一碾壓單元,該碾壓單元用于連續地將所述碳納米管層及基底重疊設置并壓合在一起,形成所述導電元件;
一收集單元,該收集單元用于收集所述導電元件。
2.如權利要求1所述的導電元件的制備裝置,其特征在于,所述初始碳納米管膜供給單元包括一碳納米管陣列、一供給臺,以及一拉伸工具;其中,該供給臺用于放置該碳納米管陣列;所述拉伸工具用于從該碳納米管陣列上基本沿所述第一方向拉伸獲得所述初始碳納米管膜。
3.如權利要求2所述的導電元件的制備裝置,其特征在于,所述圖案化處理單元為激光器或電子束照射裝置。
4.如權利要求3所述的導電元件的制備裝置,其特征在于,所述該基底供給單元包括一卷軸及纏繞在該卷軸上的所述基底。
5.如權利要求4所述的導電元件的制備裝置,其特征在于,所述碾壓單元包括一對壓輥,所述碳納米管層及基底通過該一對壓輥之間,使該碳納米管層層疊壓合在該基底上,形成所述導電元件。
6.如權利要求5所述的導電元件的制備裝置,其特征在于,所述收集單元包括一收集軸,該收集軸用于將所述導電元件纏繞在該收集軸上,并帶動所述基底及碳納米管層運動。
7.如權利要求1所述的導電元件的制備裝置,其特征在于,進一步包括一粘膠供給單元,該粘膠供給單元用于在所述基底進入所述碾壓單元之前,在該基底上形成一粘膠層,該粘膠層將所述碳納米管層固定在該基底上。
8.一種導電元件的制備方法,包括以下步驟:
提供一碳納米管陣列、一基底、一對壓輥以及一牽引單元;
從所述碳納米管陣列中拉取一初始碳納米管膜,該初始碳納米管膜的一端與所述碳納米管陣列相連,且該初始碳納米管膜包括多個碳納米管,該多個碳納米管通過范德華力首尾相連且沿一第一方向延伸;
將所述初始碳納米管膜與所述基底層疊通過所述一對壓輥之間,且位于所述碳納米管陣列與該一對壓輥之間的初始碳納米管膜懸空設置;
圖案化處理所述懸空設置的初始碳納米管膜,使該懸空設置的初始碳納米管膜在所述第一方向上形成至少一行通孔,且每行上至少有兩個間隔設置的通孔;
采用一溶劑處理所述經過圖案化處理的初始碳納米管膜,使該經過圖案化處理的初始碳納米管膜收縮,形成一碳納米管層;以及
啟動所述一對輥子及牽引單元,使該一對輥子及牽引單元轉動,該一對輥子將該基底及所述碳納米管層壓合在一起形成所述導電元件,該牽引單元帶動所述基底及壓合在該基底上的碳納米管層運動,從而連續形成該導電元件。
9.如權利要求8所述的導電元件的制備方法,其特征在于,所述圖案化處理所述懸空設置的初始碳納米管膜的方法為:采用激光處理或電子束射所述懸空設置的初始碳納米管膜,使該預制碳納米管膜形成所述多個通孔。
10.如權利要求8所述的導電元件的制備方法,其特征在于,所述通孔的形狀為至少具有一對平行邊的四邊形、橢圓形、三角形或圓形。
11.如權利要求8所述的導電元件的制備方法,其特征在于,所述通孔的形狀為長方形或菱形。
12.如權利要求8所述的導電元件的制備方法,其特征在于,相鄰的通孔之間的間距大于等于0.1毫米。
13.如權利要求8所述的導電元件的制備方法,其特征在于,圖案化處理所述懸空設置的初始碳納米管膜的步驟為:在該懸空設置的初始碳納米管膜上形成多個通孔,該多個通孔在該懸空設置的初始碳納米管膜中沿所述第一方向成多行排列。
14.如權利要求13所述的導電元件的制備方法,其特征在于,所述多個通孔沿一第二方向排列成多列,且位于同一排上的通孔沿第二方向間隔設置,該第二方向與所述第一方向相交設置。
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