[發明專利]光記錄介質無效
| 申請號： | 201210120616.3 | 申請日： | 2009-02-24 |
| 公開（公告）號： | CN102646430A | 公開（公告）日： | 2012-08-22 |
| 發明（設計）人： | 伊藤英一;尾留川正博 | 申請（專利權）人： | 松下電器產業株式會社 |
| 主分類號： | G11B7/24 | 分類號： | G11B7/24;G11B7/09 |
| 代理公司： | 中科專利商標代理有限責任公司 11021 | 代理人： | 汪惠民 |
| 地址： | 日本*** | 國省代碼： | 日本;JP |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 記錄 介質 | ||
1.一種通過使用SIL光學系統可進行光記錄再生的光記錄介質，其特征在于，
所述光記錄介質具有：
基板；
保護層；和
在所述基板和所述保護層之間所形成的至少一個信號層，
所述信號層的距所述SIL的底面的距離在0.9μm以上且38μm以下的范圍，
所述信號層具有引入區域，
在λ設為來自所述SIL的光的波長、D設為所述SIL的底面的直徑或最長軸徑時，所述引入區域中的所述光記錄介質的表面的傾斜度θ滿足θ＜arcsin(λ/D)，
并且，所述引入區域在所述信號層的一周遍布，且在半徑方向具有20μm以上的寬度。
2.根據權利要求1所述的光記錄介質，其特征在于，
所述信號層在距所述SIL的底面的距離為3.3μm以上且21μm以下的范圍。
3.根據權利要求1所述的光記錄介質，其特征在于，
所述表面的傾斜度θ滿足θ＜arcsin(λ/2D)。
4.根據權利要求1所述的光記錄介質，其特征在于，
所述引入區域被配置于在半徑16mm以上且43mm以下的范圍的位置。
5.根據權利要求1所述的光記錄介質，其特征在于，
所述引入區域被配置于在半徑17mm以上且25mm以下的范圍的位置。
6.根據權利要求1所述的光記錄介質，其特征在于，
所述基板和所述保護層的折射率的差為0.35以上。
7.根據權利要求1所述的光記錄介質，其特征在于，還具有多個所述信號層和在所述信號層間所形成的中間層，并且，所述基板和所述中間層的折射率的差為0.35以上。
8.根據權利要求6或7所述的光記錄介質，其特征在于，所述折射率的差為0.45以上。
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