[發(fā)明專利]一種散射計量的裝置和測量方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210119044.7 | 申請日: | 2012-06-05 |
| 公開(公告)號: | CN103453845A | 公開(公告)日: | 2013-12-18 |
| 發(fā)明(設(shè)計)人: | 陸海亮;王帆 | 申請(專利權(quán))人: | 上海微電子裝備有限公司 |
| 主分類號: | G01B11/24 | 分類號: | G01B11/24 |
| 代理公司: | 北京連和連知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278 | 代理人: | 王光輝 |
| 地址: | 201203 上海市浦*** | 國省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 散射 計量 裝置 測量方法 | ||
1.一種散射計量的裝置,包括:
照明模塊,用以產(chǎn)生照明光束;
物鏡,用于將所述照明光束會聚到被測對象上,并收集被測對象的反射光;
二維陣列探測器,其探測面位于所述物鏡的光瞳面,用于探測所述反射光的角分辨譜;?
光譜儀,其入光口位于物鏡光瞳面,用于測量所述反射光在一空間頻率下的光譜;通過改變光譜儀入光口在物鏡瞳面的位置可探測不同空間頻率的反射光;
所述光譜儀包含一個光源,發(fā)出的光從光譜儀入光口出射,所述二維陣列探測器可測得所述光譜儀光源發(fā)出的光,用以確定所述光譜儀入光口在所述物鏡光瞳的位置;以及
處理模塊,與所述二維陣列探測器、所述光譜儀連接,依據(jù)所述所述光譜儀測得的光譜、所述二維陣列探測器測得的光譜儀入光口在物鏡光瞳中的位置信息及/或所述二維陣列探測器測得的角分辨譜信息,計算出該被測對象的特征參數(shù)。
2.如權(quán)利要求1所述的散射計量裝置,其特征在于,還包括設(shè)置于所述照明光束路經(jīng)上或反射光束路經(jīng)上的濾光元件,用于對其接收的光進行處理,產(chǎn)生窄帶光輸出。
3.如權(quán)利要求2所述的散射計量裝置,其特征在于,所述濾光元件濾出的窄帶光半高全寬小于20nm。
4.如權(quán)利要求3所述的散射計量裝置,其特征在于,所述濾光元件濾出的窄帶光半高全寬小于10nm。
5.如權(quán)利要求2所述的散射計量裝置,其特征在于,所述濾光元件為干涉濾光片、光柵、單色儀或聲光調(diào)制器。
6.如權(quán)利要求1所述的散射計量裝置,其特征在于,所述照明模塊包括一光源,所述光源為氙氣燈、氘燈或鹵素?zé)?,或其組合。
7.如權(quán)利要求1所述的散射計量裝置,其特征在于,所述二維陣列探測器為CCD或CMOS二維陣列探測器,用于探測反射光的角分辨譜。
8.如權(quán)利要求1所述的散射計量裝置,其特征在于,所述光譜儀的入光口為機械刀口或光纖頭。
9.一種利用權(quán)利要求1所述的散射計量裝置的散射計量方法,包括:
提供一照明光束,并將其引導(dǎo)匯聚至一被測對象表面;
光譜儀測量所述被測對象的反射光在一空間頻率下的光譜;
二維陣列探測器探測所述被測對象的反射光的角分辨譜,以及探測光譜儀入光口在物鏡光瞳中的位置信息;以及
依據(jù)所述反射光的光譜、光譜儀入光口在物鏡光瞳中的位置信息及/或所述反射光的角分辨譜計算所述被測對象的特征參數(shù)。
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