[發明專利]硬質涂層及其形成方法

有效

• 申請號: 201210118716.2
• 申請日: 2012-04-20
• 公開（公告）號: CN103184414B
• 公開（公告）日: 2017-03-01
• 發明（設計）人: 梁智勛;鄭在仁
• 申請（專利權）人: 浦項產業科學研究院
• 主分類號: C23C14/22
• 分類號: C23C14/22;C23C14/06;B32B9/04
• 代理公司: 北京德琦知識產權代理有限公司11018
• 代理人: 周艷玲,羅正云

1.一種硬質涂層的形成方法，包括以下步驟：

洗滌基板；

在真空設備中安裝經過洗滌的所述基板，并將所述真空設備的內部做成真空；

清潔所述基板；

在所述基板上以斜角形成斜角涂層；以及

在形成所述斜角涂層之后，施加偏壓，以與所述基板垂直的方向在所述斜角涂層上形成垂直涂層。

2.根據權利要求1所述的硬質涂層的形成方法，

所述斜角涂層及所述垂直涂層為多層。

3.根據權利要求1所述的硬質涂層的形成方法，

所述斜角涂層的傾斜方向朝相反的方向改變兩次以上。

4.根據權利要求1至3中的任一項所述的硬質涂層的形成方法，

所述斜角涂層及所述垂直涂層由氮化鈦構成。

5.根據權利要求1至3中的任一項所述的硬質涂層的形成方法，

使用醇和丙酮對所述基板進行超聲波洗滌。

6.根據權利要求1至3中的任一項所述的硬質涂層的形成方法，

所述真空設備內部的真空度為10^-6torr以下。

7.根據權利要求1至3中的任一項所述的硬質涂層的形成方法，

在將氬氣注入所述真空設備中，使得真空度達到2×10^-2torr至2×10^-4torr時執行所述斜角涂層及所述垂直涂層的形成。

8.根據權利要求1至3中的任一項所述的硬質涂層的形成方法，

所述斜角的大小為10～80°。

9.根據權利要求1至3中的任一項所述的硬質涂層的形成方法，

在200V以下的范圍內施加所述偏壓。

10.一種硬質涂層，形成有：斜角涂層，以與所述基板傾斜的方向形成在基板上；及垂直涂層，以與所述基板垂直的方向形成于所述斜角涂層上。

11.根據權利要求10所述的硬質涂層，

所述斜角涂層及所述垂直涂層為多層。

12.根據權利要求10或11所述的硬質涂層，

所述斜角涂層的傾斜方向朝相反的方向改變兩次以上。

13.根據權利要求10或11所述的硬質涂層，

所述斜角涂層及所述垂直涂層由氮化鈦構成。