[發明專利]一種雙面涂層的復合電極制備工藝

有效

• 申請號: 201210118140.X
• 申請日: 2012-04-23
• 公開（公告）號: CN102703925B
• 公開（公告）日: 2014-12-17
• 發明（設計）人: 徐文新
• 申請（專利權）人: 江陰安凱特電化學設備有限公司
• 主分類號: C25B11/00
• 分類號: C25B11/00
• 代理公司: 暫無信息
• 代理人: 暫無信息

1.一種雙面涂層的復合電極制備工藝，其特征在于，所述制備 工藝包括如下工藝步驟：

S1：采用純度大于99.0％金屬鈦板作為基板，并經過預處理清洗， 采用金相砂紙打磨拋光，丙酮除油，堿液加熱浸泡，混合酸清洗，用 去離子水超聲波清洗；其中堿液浸泡溫度為80～120℃，時間為5～10 分鐘；堿液成份為NaOH、NaHCO₃和Na₃PO₄的混合水溶液，三種成 分在混合水溶液中的質量百分比濃度均為2～10％；混合酸清洗時間 40～80秒，混合酸的各成份體積比是：體積百分比為40％的氫氟酸水溶 液∶1.40g·cm^-3硝酸∶1.84g·cm^-3硫酸＝5～15∶2～10∶1～5；

S2：配置質量百分比為1～10％的貴金屬有機溶液，采用超聲波振 蕩溶解，靜置；

S3：將S2步靜置后的貴金屬有機溶液中加入SnCl₂形成混合溶液， SnCl₂在混合溶液質量百分比為0.5～2％，靜置，待用；

S4：將經過S3步配置的混合溶液多次均勻地涂敷在S1步中準備好 基板的一面形成具有析氯性能的電極層；

S5：將S4步中單面涂敷電極層的基板加熱至200～500℃，保溫時 間為2～3小時；

S6：將S5步中加熱處理后鈦基板的另一面通過打磨去除氧化層， 然后利用電鍍工藝將另一面制成具有析氫性能的電極層。

2.如權利要求1所述的雙面涂層的復合電極制備工藝，其特征在 于，所述S1步中的貴金屬有機溶液為RuCl₃、RhCl₃、PdCl₃、OsCl₃、 LrCl₃和PtCl₃中的任意一種或其任意結合的有機液。

3.如權利要求2所述的雙面涂層的復合電極制備工藝，其特征在 于，所述S2步中配置貴金屬有機溶液，使用的有機溶劑是乙醇、丙醇、 丁醇、甲酸或乙酸。

4.如權利要求1所述的雙面涂層的復合電極制備工藝，其特征在 于，所述S3步中靜置時間為12～24小時。

5.如權利要求1所述的雙面涂層的復合電極制備工藝，其特征在 于，所述S4步中每次涂敷后，在烘干箱中以30～50℃溫度干燥5～20分 鐘后再進行下一次涂敷，重復多次進行涂敷，涂敷的薄膜的最終厚度 保持在10～50μm。

6.如權利要求1所述的雙面涂層的復合電極制備工藝，其特征在 于，所述S5步中對單面涂敷電極層的基板加熱升溫速率為3～8℃/秒。

7.如權利要求1所述的雙面涂層的復合電極制備工藝，其特征在 于，所述S6步中的電鍍工藝是在鈦基板的一面鍍鎳，其鍍層厚度為 2～10μm。

8.如權利要求7所述的雙面涂層的復合電極制備工藝，其特征在 于，所述鍍鎳工藝采用的鍍鎳液的成分為：25～40g/L的NiSO₄·7H₂O， 10～25g/L的NaH₂PO₂·H₂O，40～60g/L的NH₄Cl，70～90g/L的Na₃C₆H₅O₇·2H₂O；其pH值為8～9.5；工藝溫度為75～90℃，工藝時間為8～20分鐘。