[發(fā)明專利]用于光刻設(shè)備的對準(zhǔn)信號處理系統(tǒng)

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210117917.0
• 申請日: 2012-04-22
• 公開（公告）號: CN103376672A
• 公開（公告）日: 2013-10-30
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 李運鋒;朱正平;宋海軍
• 申請（專利權(quán)）人: 上海微電子裝備有限公司
• 主分類號: G03F9/00
• 分類號: G03F9/00;G03F7/20
• 代理公司: 北京連和連知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11278
• 代理人: 王光輝

1.一種用于光刻設(shè)備的對準(zhǔn)信號處理系統(tǒng)，其特征在于，包括：信號采集模塊、級次分離模塊以及信號處理模塊，所述信號采集模塊采集全部級次的光學(xué)信號并將其轉(zhuǎn)換為光強數(shù)據(jù)，所述級次分離模塊用于對離散的光強數(shù)據(jù)進行級次分離，提取出各級次光強數(shù)據(jù)，所述信號處理模塊根據(jù)所述各級次光強數(shù)據(jù)獲得對準(zhǔn)位置。

2.如權(quán)利要求1所述的用于光刻設(shè)備的對準(zhǔn)信號處理系統(tǒng)，其特征在于，所述信號采集模塊包括：

一光電轉(zhuǎn)換單元，用于將光纖輸入的光學(xué)信號轉(zhuǎn)換為電學(xué)信號并放大；

一解調(diào)單元，用于對電學(xué)信號進行解調(diào)，輸出模擬對準(zhǔn)信號；

一A/D采樣單元，用于對模擬對準(zhǔn)信號離散采樣，獲得光強數(shù)據(jù)；

一位置采樣單元，用于對工件臺的位置進行采樣，獲得工件臺位置數(shù)據(jù)。

3.如權(quán)利要求1所述的用于光刻設(shè)備的對準(zhǔn)信號處理系統(tǒng)，其特征在于，所述信號處理模塊包括：

一擬合計算單元，用于分別對獲得的各級次光強數(shù)據(jù)與工件臺位置數(shù)據(jù)進行擬合處理，獲得模型的擬合參數(shù)，所述的各級次光強數(shù)據(jù)共用工件臺位置數(shù)據(jù)；

一對準(zhǔn)位置求解單元，用于根據(jù)擬合處理結(jié)果，求取對準(zhǔn)位置。

4.如權(quán)利要求1所述的用于光刻設(shè)備的對準(zhǔn)信號處理系統(tǒng)，其特征在于，所述級次分離模塊為一固件模塊。

5.如權(quán)利要求1所述的用于光刻設(shè)備的對準(zhǔn)信號處理系統(tǒng)，其特征在于，所述級次分離模塊采用帶通濾波方法、小波分析法或傅里葉變換方法。

6.如權(quán)利要求5所述的用于光刻設(shè)備的對準(zhǔn)信號處理系統(tǒng)，其特征在于，所述帶通濾波器方法采用如下帶通濾波器實現(xiàn)：

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式中，M為分子多項式階數(shù)，（）為分子多項式各階系數(shù)，N為分母多項式階數(shù)，（）為分母多項式各階系數(shù)，N也決定了濾波器的階數(shù)，z為算子，H(z)稱為N階IIR濾波器函數(shù)。

7.如權(quán)利要求2所述的用于光刻設(shè)備的對準(zhǔn)信號處理系統(tǒng)，其特征在于，所述位置采樣單元與A/D采樣單元通過同步信號保持采樣同步。