[發(fā)明專(zhuān)利]一種太赫茲波成像裝置

無(wú)效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210117301.3
• 申請(qǐng)日: 2012-04-19
• 公開(kāi)（公告）號(hào): CN102681022A
• 公開(kāi)（公告）日: 2012-09-19
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 鄧朝;張存林;梁來(lái)順;張亮亮
• 申請(qǐng)（專(zhuān)利權(quán)）人: 首都師范大學(xué)
• 主分類(lèi)號(hào): G01V8/10
• 分類(lèi)號(hào): G01V8/10;G01N21/17
• 代理公司: 北京理工大學(xué)專(zhuān)利中心 11120
• 代理人: 李?lèi)?ài)英;張利萍

1.一種太赫茲波成像裝置，其特征在于，包括多面體轉(zhuǎn)鏡(3)、太赫茲透鏡(4)和太赫茲線(xiàn)陣探測(cè)器；

被測(cè)目標(biāo)(1)所輻射或反射的太赫茲波被所述多面體轉(zhuǎn)鏡(3)反射到所述太赫茲透鏡(4)上，經(jīng)過(guò)太赫茲透鏡(4)的匯聚后由太赫茲線(xiàn)陣探測(cè)器接收；

所述多面體轉(zhuǎn)鏡(3)由多個(gè)平面鏡圍繞而成，多面體轉(zhuǎn)鏡(3)可繞轉(zhuǎn)軸轉(zhuǎn)動(dòng)，所有平面鏡與轉(zhuǎn)軸之間的角度大小呈線(xiàn)性關(guān)系變化，通過(guò)每個(gè)平面鏡輪流作為被測(cè)目標(biāo)(1)的反射面，使得被測(cè)目標(biāo)(1)在太赫茲透鏡(4)的像平面上所成的像在水平方向上移動(dòng)。

2.如權(quán)利要求1所述的一種太赫茲波成像裝置，其特征在于，所述多面體轉(zhuǎn)鏡(3)包括正N面體支架(3-1)和N個(gè)平面鏡(3-2)；在正N面體支架(3-1)的每個(gè)側(cè)面上均設(shè)置一個(gè)平面鏡(3-2)，使所有平面鏡(3-2)與正N面體支架(3-1)的轉(zhuǎn)軸之間的角度等間隔依次增加，且以0度為中心正負(fù)對(duì)稱(chēng)分布；正N面體支架(3-1)的中心軸作為多面體轉(zhuǎn)鏡(3)的轉(zhuǎn)軸，多面體轉(zhuǎn)鏡(3)放置在被測(cè)目標(biāo)(1)的前方，使多面體轉(zhuǎn)鏡(3)的中心軸在水平面內(nèi)且與被測(cè)目標(biāo)(1)所在的物平面平行；多面體轉(zhuǎn)鏡(3)上與所在側(cè)面成0°角的平面鏡(3-2)記為平面鏡A；

所述N取3或5；

所述太赫茲透鏡(4)置于多面體轉(zhuǎn)鏡(3)的反射光路中，當(dāng)平面鏡A與被測(cè)目標(biāo)(1)成45°角時(shí)，被測(cè)目標(biāo)(1)的幾何中心點(diǎn)經(jīng)過(guò)平面鏡A的反射后投影到太赫茲透鏡(4)的幾何中心上；

所述太赫茲線(xiàn)陣探測(cè)器至少包括2個(gè)探測(cè)單元(6)，所有探測(cè)單元(6)在被測(cè)目標(biāo)(1)的像平面的水平中心線(xiàn)上均勻分布。

3.如權(quán)利要求2所述的一種太赫茲波成像裝置，其特征在于，多面體轉(zhuǎn)鏡(3)中與所在側(cè)面所成角度負(fù)向最大的一個(gè)平面鏡(3-2)記為平面鏡B，多面體轉(zhuǎn)鏡(3)中與所在側(cè)面所成角度正向最大的一個(gè)平面鏡(3-2)記為平面鏡C，當(dāng)多面體轉(zhuǎn)鏡(3)從平面B轉(zhuǎn)到平面鏡C時(shí)，被測(cè)目標(biāo)(1)在太赫茲透鏡(4)的像平面上所成的像移動(dòng)太赫茲線(xiàn)陣探測(cè)器中兩個(gè)相鄰探測(cè)單元之間(6)的間距。

4.如權(quán)利要求1或2所述的一種太赫茲波成像裝置，其特征在于，還包括用于將太赫茲透鏡(4)透射的太赫茲波方向改變90°的反射鏡(5)。

5.如權(quán)利要求1或2所述的一種太赫茲波成像裝置，其特征在于，所述太赫茲透鏡(4)要保證成像視場(chǎng)覆蓋被測(cè)目標(biāo)(1)的水平橫向范圍，且選用允許頻率范圍為0.1THz-10THz的太赫茲波通過(guò)的材料加工而成。

6.如權(quán)利要求1或2所述的一種太赫茲波成像裝置，其特征在于，反射鏡(5)、多面體轉(zhuǎn)鏡(3)、太赫茲透鏡(4)和太赫茲線(xiàn)陣探測(cè)器均封裝在盒體內(nèi)，在被測(cè)目標(biāo)(1)與多面體轉(zhuǎn)鏡(3)之間的盒體上安裝有可允許太赫茲波透過(guò)的成像窗口(2)。

7.如權(quán)利要求1或2所述的一種太赫茲波成像裝置，其特征在于，還包括頻率范圍為0.1THz-10THz太赫茲輻射源，用于對(duì)被測(cè)目標(biāo)(1)進(jìn)行照明。