[發(fā)明專利]一種掃描近場光學(xué)顯微鏡

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210116669.8
• 申請日: 2012-04-20
• 公開（公告）號: CN102621351A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 鐘海艦;劉爭暉;徐耿釗;樊英民;徐科
• 申請（專利權(quán)）人: 中國科學(xué)院蘇州納米技術(shù)與納米仿生研究所
• 主分類號: G01Q60/18
• 分類號: G01Q60/18
• 代理公司: 上海翼勝專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 31218
• 代理人: 孫佳胤;翟羽

1.一種掃描近場光學(xué)顯微鏡，包括真空腔體和光纖探針掃描裝置系統(tǒng)，所述光纖探針掃描裝置系統(tǒng)位于真空腔體中，其特征在于，所述光纖探針掃描單元包括一光纖探針，一支撐架和一光纖定位槽，所述光纖定位槽位于支撐架上，所述光纖探針的尾端固定于光纖定位槽上，所述光纖探針掃描裝置系統(tǒng)包括多個光纖探針掃描單元。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描近場光學(xué)顯微鏡，其特征在于，所述光纖探針掃描單元進一步包括一雙壓電陶瓷晶片，一石英音叉和一針尖底座，所述雙壓電陶瓷晶片一端通過支撐架和針尖底座相連，所述石英音叉的上臂黏附于雙壓電陶瓷晶片另一端的下方，所述石英音叉的下臂黏附光纖探針的中間部分。

3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的掃描近場光學(xué)顯微鏡，其特征在于，進一步包括光學(xué)聚焦系統(tǒng)，所述真空腔體包括一光窗，所述光窗位于真空腔體上，所述光學(xué)聚焦系統(tǒng)位于真空腔體外，所述光纖探針掃描單元和光學(xué)聚焦系統(tǒng)通過光窗以形成光學(xué)相連。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掃描近場光學(xué)顯微鏡，其特征在于，所述光學(xué)聚焦系統(tǒng)包括一光學(xué)鏡系統(tǒng)、一平行光束裝置和一三維精密移動臺，所述光學(xué)鏡系統(tǒng)位于三維精密移動臺上。

5.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掃描近場光學(xué)顯微鏡，其特征在于，所述光纖探針掃描單元和光學(xué)聚焦系統(tǒng)通過光窗以形成的光學(xué)相連為，所述平行光束裝置產(chǎn)生一平行光束并通過光學(xué)鏡系統(tǒng)經(jīng)由光窗照射到真空腔體的內(nèi)部。

6.根據(jù)權(quán)利要求4所述的掃描近場光學(xué)顯微鏡，其特征在于，所述光學(xué)鏡系統(tǒng)為為長工作距離物鏡、聚焦透鏡中任意一個或兩者的混合系統(tǒng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掃描近場光學(xué)顯微鏡，其特征在于，所述真空腔體還包括一機械手，位于所述真空腔體內(nèi)。

8.根據(jù)權(quán)利要求7所述的掃描近場光學(xué)顯微鏡，其特征在于，當(dāng)光纖探針掃描單元的光纖探針損壞后，可通過所述機械手將已損壞光纖探針的光纖探針掃描單元取下，并換上另一光纖探針完好的光纖探針掃描單元。

9.根據(jù)權(quán)利要求3所述的掃描近場光學(xué)顯微鏡，其特征在于，所述真空腔體的真空范圍為10^-6~10^-10帕斯卡。