[發明專利]包括具有反射涂層的鏡元件的投射物鏡

有效

• 申請號: 201210116398.6
• 申請日: 2007-08-20
• 公開（公告）號: CN102621825A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發明（設計）人: 丹尼.陳;漢斯-于爾根.曼;薩斯查.米古拉
• 申請（專利權）人: 卡爾蔡司SMT有限責任公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20;G02B17/06;G21K1/06
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 邱軍

1.一種光學系統，包括：

多個元件，布置用于將波長λ的輻射從物面中的物場成像到像面中的像場；

所述元件包括鏡元件，該鏡元件具有布置在輻射路徑的由反射涂層形成的反射表面；

所述鏡元件中的至少一個具有在一個或多個位置偏離最佳擬合旋轉對稱反射表面約λ以上的非旋轉對稱反射表面；

所述元件包括切趾校正元件，相對于不具有該切趾校正元件的光學系統，該切趾校正元件有效地校正該光學系統的出瞳中的空間強度分布，

其中，所述切趾校正元件是具有由反射涂層形成的反射面的鏡元件，所述反射涂層設計為非旋轉對稱漸變涂層，該非旋轉對稱漸變涂層包括不同材料的多層疊層，所述不同材料的多層疊層形成多個雙層，其中所述雙層包括具有第一折射率的第一材料的相對厚的第一層和具有第二折射率的第二材料的相對薄的第二層，所述第二折射率高于所述第一折射率，所述多個雙層具有幾何層厚，該幾何層厚在涂層的第一方向上根據第一漸變方程變化而在垂直于所述第一方向的第二方向上根據不同于所述第一漸變方程的第二漸變方程變化，所述第一層的厚度和第二層的厚度之間的厚度比實質上保持不變。

2.如權利要求1所述的光學系統，其中，相對于不具有該切趾校正元件的光學系統，所述切趾校正元件有效地增加所述出瞳中的空間強度分布的對稱性。

3.如權利要求1或2所述的光學系統，其中，相比較不具有該切趾校正元件的相同光學系統，所述切趾校正元件有效地增加所述出瞳中的強度分布的旋轉對稱性。

4.如權利要求3所述的光學系統，其中，所述出瞳中的空間強度分布由表示所述出瞳的邊緣中的強度的歸一化方位變化的切趾參數APO表征，根據：

APO＝(I_MAX-I_MIN)/(I_MAX+I_MIN)

其中，I_MAX為所述出瞳的邊緣區域中的強度的最大值，和I_MIN為所述出瞳的邊緣區域中的強度的最小值，

其中所述切趾參數APO減少至少1％。

5.如權利要求1或2所述的光學系統，其中，當與不具有所述切趾元件的相同光學系統相比較時，所述切趾校正元件有效地增加相對所述光學系統的子午平面的所述出瞳中的強度分布的鏡對稱性。

6.如權利要求1或2所述的光學系統，其中，當與不具有所述切趾元件的相同光學系統相比較時，所述切趾校正元件有效地減少場依賴切趾。

7.如權利要求1或2所述的光學系統，其中，當與不具有所述切趾元件的相同光學系統相比較時，所述切趾校正元件有效地將所述出瞳中的強度分布的強度中心朝向所述出瞳的中心移動。

8.如權利要求1所述的光學系統，其中，所述切趾校正元件包括在所述帽層的輻射入口側上布置在所述帽層上的至少一個濾波層，其中所述濾波層由對波長λ的輻射進行吸收且具有空間變化的幾何厚度的濾波層材料制成。

9.如權利要求8所述的光學系統，其中，所述濾波層由在波長λ具有比所述帽層材料大的吸收率的材料制成。

10.如權利要求8或9所述的光學系統，其中，所述濾波層由在波長λ具有比所述帽層材料小的吸收率的材料制成。

11.如權利要求8或9所述的光學系統，其中，所述濾波層由選自由釕、氧化鋁、碳化硅、碳化鉬、碳、氮化鈦、二氧化鈦和釕、氧化鋁、氮化鈦或二氧化鈦和其他物質的混合物、合金或組合物構成的組的材料制成。

12.如權利要求1或2之一所述的光學系統，其中，所述切趾校正元件光學上布置在遠離光學系統的光瞳面的位置，在該位置滿足條件P(M)＜1，其中，

P(M)＝D(SA)/(D(SA)+D(CR))，

其中，D(SA)是在相應表面M上的源自物面上的場點的光束的子孔徑的直徑；和D(CR)是在該表面M上的在光學系統參考平面中所測量的通過光學系統成像的有效物場的主光線的最大距離。

13.如權利要求12所述的光學系統，其中，所述參考平面是光學系統的對稱平面。

14.如權利要求12所述的光學系統，其中，對于所述切趾校正元件的位置，滿足條件P(M)＜0.99。