[發(fā)明專利]光學(xué)加工系統(tǒng)和方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210114482.4
• 申請日: 2012-04-18
• 公開（公告）號: CN102621824A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 胡進(jìn);浦東林;陳林森
• 申請（專利權(quán)）人: 蘇州大學(xué);蘇州蘇大維格光電科技股份有限公司
• 主分類號: G03F7/20
• 分類號: G03F7/20
• 代理公司: 北京集佳知識產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227
• 代理人: 常亮

1.一種光學(xué)加工系統(tǒng)，其特征在于，包括：

加工平臺，實現(xiàn)第一運動軸的步進(jìn)運動和第二運動軸的掃描運動；

空間光調(diào)制器，產(chǎn)生設(shè)計圖形；

投影光學(xué)系統(tǒng)，包括第一透鏡組、第二透鏡組和濾波器，所述濾波器設(shè)于所述第一透鏡組和第二透鏡組之間且位于所述第一透鏡組的頻譜面上，所述設(shè)計圖形通過所述投影光學(xué)系統(tǒng)以一定的放大倍率投影至位于加工平臺上的待加工物表面上，并實現(xiàn)曝光。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)加工系統(tǒng)，其特征在于，所述空間光調(diào)制器由多個圖塊構(gòu)成，每個圖塊用以顯示一定周期和占空比的圖像，所述圖像形成所述設(shè)計圖形的一部分。

3.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)加工系統(tǒng)，其特征在于，所述每個圖塊具有相同的像素數(shù)。

4.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)加工系統(tǒng)，其特征在于，所述每個圖塊顯示圖像的周期相同。

5.根據(jù)權(quán)利要求2所述的光學(xué)加工系統(tǒng)，其特征在于，所述圖像為離散化的黑白圖像。

6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的光學(xué)加工系統(tǒng)，其特征在于，所述濾波器為光闌。

7.一種光學(xué)加工方法，使用權(quán)利要求2所述的光學(xué)加工系統(tǒng)，其特征在于，包括步驟：

(1)、加工平臺沿第二運動軸進(jìn)行掃描；

(2)、空間光調(diào)制器產(chǎn)生設(shè)計圖形；

(3)、所述設(shè)計圖形被所述濾波器濾波后投影至待加工物表面上；

(4)、第二運動軸運動到達(dá)預(yù)定曝光位置，觸發(fā)曝光脈沖，在待加工物表面上實現(xiàn)曝光。