[發明專利]連續式卷繞濺射鍍膜機

有效

• 申請號: 201210113679.6
• 申請日: 2012-04-18
• 公開（公告）號: CN102994963A
• 公開（公告）日: 2013-03-27
• 發明（設計）人: 金烈
• 申請（專利權）人: 深圳市金凱新瑞光電有限公司
• 主分類號: C23C14/34
• 分類號: C23C14/34;C23C14/56
• 代理公司: 深圳市惠邦知識產權代理事務所 44271
• 代理人: 殷齊齊

1.一種連續式卷繞濺射鍍膜機，包括真空鍍室，其特征在于：

還包括陰極小室，陰極小室的開口直接連通所述真空鍍室，所述陰極小室突出于真空鍍室的側壁之外；所述陰極小室的側壁具有冷卻板，冷卻板內具有與制冷裝置連通的水管。

2.根據權利要求1所述的連續式卷繞濺射鍍膜機，其特征在于：所述陰極小室共設置2-9個，每個陰極小室具有獨立的抽氣分子泵及雙氣流補氣裝置。

3.根據權利要求2所述的連續式卷繞濺射鍍膜機，其特征在于：各陰極小室之間設置氣氛引導隔離板。

4.根據權利要求2或3所述的連續式卷繞濺射鍍膜機，其特征在于：所述陰極小室呈六面體狀，六面體的五個面封閉，所述開口設置于另一個面。

5.根據權利要求4所述的連續式卷繞濺射鍍膜機，其特征在于：所述真空鍍室的側壁與所述陰極小室采用緊固件連接或焊接為一體。

6.根據權利要求5所述的連續式卷繞濺射鍍膜機，其特征在于：所述陰極小室可以承受0.0000001Torr的真空壓力。

7.根據權利要求1所述的連續式卷繞濺射鍍膜機，其特征在于：包括陰極對靶，構成陰極對靶的兩個陰極單靶之靶面具有夾角。

8.根據權利要求7所述的連續式卷繞濺射鍍膜機，其特征在于：還包括弧形陽極基板，在垂直于弧形陽極基板之弧形軸心的平面內，所述兩個陰極單靶之靶面之中垂線均通過弧形陽極基板之弧形的軸心點。

9.根據權利要求1所述的連續式卷繞濺射鍍膜機，其特征在于：所述陰極小室共設置2-7個，每個陰極小室具有獨立的抽氣分子泵及雙氣流補氣裝置；各陰極小室之間設置氣氛引導隔離板。

10.根據權利要求9所述的連續式卷繞濺射鍍膜機，其特征在于：還包括陰極對靶，構成陰極對靶的兩個陰極單靶之靶面具有夾角；還包括弧形陽極基板，在垂直于弧形陽極基板之弧形軸心的平面內，所述兩個陰極單靶之靶面之中垂線均通過弧形陽極基板之弧形的軸心點。