[發(fā)明專利]階梯式超前掘進同步光爆施工巷道的方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210111092.1 | 申請日: | 2012-04-17 |
| 公開(公告)號: | CN102620616A | 公開(公告)日: | 2012-08-01 |
| 發(fā)明(設計)人: | 董金奎;范作鵬;張忠輝;邱俊剛;孫廣華;王相君;商繼紅;于斌;董金波;邱英魁 | 申請(專利權)人: | 山東黃金礦業(yè)(萊州)有限公司焦家金礦 |
| 主分類號: | F42D3/04 | 分類號: | F42D3/04;F42D1/00 |
| 代理公司: | 煙臺雙聯(lián)專利事務所(普通合伙) 37225 | 代理人: | 梁翠榮 |
| 地址: | 261441 *** | 國省代碼: | 山東;37 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 階梯 超前 掘進 同步 施工 巷道 方法 | ||
1.一種階梯式超前掘進同步光爆施工巷道的方法,其特征在于按照以下步驟施工:
首先施工自由空間區(qū)(C),其深度2~2.5米,高度為巷道總高度的60~93%,自由空間區(qū)(C)的上方為同步光爆區(qū)(B),自由空間區(qū)(C)的前方為施工超前掘進區(qū)(A),施工超前掘進區(qū)(A)的深度與自由空間區(qū)(C)深度相同;
然后在同步光爆區(qū)(B)和超前掘進區(qū)(A)分別施工同步光爆炮孔(B1)和超前掘進炮孔(A1),在施工超前掘進炮孔(A1)時,按照同步光爆區(qū)(B)的設計要求需要施工一排靠近同步光爆區(qū)(B)的分界炮孔(A2),在施工同步光爆炮孔(B1)時,使作為邊孔的同步光爆炮孔(B1)的軸線向外偏斜3~5°;炮孔直徑為同步光爆區(qū)(B)厚度的5~10%;孔距為同步光爆區(qū)(B)厚度的75~90%;?
最后裝藥、起爆、清理巖石;
循環(huán)上述步驟直至完成巷道施工。
2.如權利要求1所述的階梯式超前掘進同步光爆施工巷道的方法,其特征在于:裝藥結構分為堵塞段、孔底加強段和均勻裝藥段三段,堵塞段的長度為0.2~0.3m,均勻裝藥段采用軸向間隔不偶合裝藥,并要求沿孔軸線方向均勻分布。
3.如權利要求1所述的階梯式超前掘進同步光爆施工巷道的方法,其特征在于:起爆采用毫秒非電塑料導爆管起爆系統(tǒng)。
4.如權利要求1所述的階梯式超前掘進同步光爆施工巷道的方法,其特征在于:藥卷直徑32mm,不偶合系數(shù)為1.25;裝藥密度為150-200g/m。
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