[發明專利]再剝離用水分散型丙烯酸系粘合劑組合物及粘合片

有效

• 申請號: 201210110460.0
• 申請日: 2012-04-13
• 公開（公告）號: CN102732191A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發明（設計）人: 天野立巳;森本有;三井數馬;高島杏子
• 申請（專利權）人: 日東電工株式會社
• 主分類號: C09J133/06
• 分類號: C09J133/06;C09J133/08;C09J11/06;C09J11/08;C09J7/02
• 代理公司: 北京林達劉知識產權代理事務所(普通合伙) 11277
• 代理人: 劉新宇;李茂家

技術領域

本發明涉及可再剝離的水分散型丙烯酸系粘合劑組合物。更具體而言，本發明涉及一種可形成凹陷等外觀不良減少而外觀特性優異、另外經時粘合力升高的防止性能優異的粘合劑層的再剝離用水分散型丙烯酸系粘合劑組合物。另外，本發明還涉及設置有由該粘合劑組合物形成的粘合劑層的粘合片。

背景技術

在以偏光板、相位差板、防反射板等光學薄膜為代表的光學構件(光學材料)的制造·加工工序中，為了防止表面損傷、污染、提高切斷加工性、抑制裂紋等，在光學構件的表面上貼附使用表面保護薄膜(參照專利文獻1、2)。作為這些表面保護薄膜，一般使用在塑料薄膜基材的表面上設有再剝離性的粘合劑層的再剝離性的粘合片。

以往，在這些表面保護薄膜用途中，作為粘合劑，使用溶劑型的丙烯酸系粘合劑(參照專利文獻1、2)，由于這些溶劑型丙烯酸系粘合劑含有有機溶劑，因此，從涂覆時的操作環境性的觀點考慮，試圖將其轉換為水分散型的丙烯酸系粘合劑(參照專利文獻3～5)。

要求這些表面保護薄膜在貼附于光學構件的過程中發揮充分的粘接性。進而，由于其在光學構件的制造工序等中使用之后會被剝離，因此要求具有優異的剝離性(再剝離性)。此外，為了具有優異的再剝離性，不僅需要剝離力小(輕剝離)，而且還需要具有在貼附于光學構件等被粘物上之后粘合力(剝離力)不經時升高的特性(粘合力升高防止性)。

為了獲得上述輕剝離、粘合力升高防止性等特性，在粘合劑(或粘合劑組合物)中使用非水溶性交聯劑是有效的。作為使用非水溶性交聯劑的粘合劑組合物，例如已知有含有油溶性交聯劑的再剝離用水分散型丙烯酸系粘合劑組合物(參照專利文獻6、7)。

然而，如上述粘合劑組合物那樣，使用非水溶性交聯劑的水分散型丙烯酸系粘合劑組合物中，非水溶性交聯劑的大顆粒不充分分散而殘留在粘合劑組合物中，由此，在形成粘合劑層時在粘合劑層表面容易產生“凹陷”等外觀不良。因此，尤其是對表面保護薄膜的粘合劑層使用非水溶性交聯劑時，有時會產生在貼附表面保護薄膜的狀態下難以進行被粘物的檢查等問題。

因此，現狀是還未能獲得可形成粘接性與再剝離性(尤其是粘合力升高防止性)優異、“凹陷”等外觀不良減少的外觀特性優異的粘合劑層的再剝離性的水分散型丙烯酸系粘合劑組合物。

另外，水分散型丙烯酸系粘合劑組合物為了得到穩定的水分散性而在粘合劑組合物中存在表面活性劑成分，由此，存在粘合劑組合物變得容易起泡的問題。尤其是在粘合劑組合物的攪拌工序中，由于攪拌時容易吞入空氣、另外吞入的氣泡通過表面活性劑變得穩定，因此具有難以去除氣泡的問題。這些氣泡會在形成粘合劑層時殘存在粘合劑層中，在粘合劑層表面形成“凹陷”等，產生外觀不良。因此，尤其是在用作表面保護薄膜的粘合劑層等時，有時會產生在貼附表面保護薄膜的狀態下難以進行被粘物的檢查等問題。

尤其，在表面保護薄膜用途(特別是光學構件的表面保護薄膜用途)等中，難以區分粘合劑層中殘存的氣泡、粘合劑層表面存在的“凹陷”是貼附的部件(作為被粘物的光學構件等)的缺陷、還是表面保護薄膜缺陷，有時會成為品質檢查、品質管理的阻礙，因此迫切需要不存在這些源自氣泡的缺陷的表面保護薄膜。

作為改善這些源于氣泡的的缺陷的手法，使用添加消泡劑的方法，出于其優異的消泡性，已知有有機硅系消泡劑、含有疏水性二氧化硅的消泡劑(參照專利文獻8、9)。

然而，有機硅系消泡劑存在如下問題：在粘合劑組合物中的均勻分散性差，會局部性地形成疏水性高的部分，其會成為起點引發粘合劑組合物涂覆時的收縮變形(crawling)。另外，還存在如下問題：有機硅系消泡劑與丙烯酸乳液系聚合物的相容性差，在形成粘合劑層之后會滲出到粘合劑層表面，引發對被粘物的污染。尤其是在光學構件的表面保護薄膜用途中，污染物有可能對光學特性產生影響，因此會成為嚴重的問題。

另一方面，存在如下問題：含有疏水性二氧化硅的消泡劑雖然在粘合劑組合物中的均勻分散性優異，但含有的疏水性二氧化硅會形成2次聚集物，產生源自二氧化硅顆粒的缺陷。另外，在光學構件的表面保護薄膜用途中，若粘合劑組合物中存在雜質則會形成光學缺陷，因此通常使用過濾器等對粘合劑組合物進行過濾。此時，還具有二氧化硅顆粒堵塞在過濾器上、降低生產效率的問題。

此外，在表面保護薄膜用途(尤其是光學構件的表面保護薄膜用途)等中，粘合片剝離時粘合劑殘留在被粘物(光學構件等)表面上(所謂的“殘膠”)、由粘合劑層中所含的成分轉印到被粘物表面上等而引起的被粘物表面的污染導致了對光學構件的光學特性產生不良影響等問題。因此，強烈要求粘合劑、粘合劑層具有對被粘物的低污染性。