[發明專利]一種以水滑石為前體的氣敏元件及其制備方法無效
| 申請號: | 201210110223.4 | 申請日: | 2012-04-16 |
| 公開(公告)號: | CN102628824A | 公開(公告)日: | 2012-08-08 |
| 發明(設計)人: | 郭影;關美玉;徐冬梅;宋宇飛;徐慶紅 | 申請(專利權)人: | 北京化工大學 |
| 主分類號: | G01N27/04 | 分類號: | G01N27/04;C01G9/02 |
| 代理公司: | 北京同恒源知識產權代理有限公司 11275 | 代理人: | 張水俤 |
| 地址: | 100029 北京市*** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 滑石 元件 及其 制備 方法 | ||
1.一種以水滑石為前體的氣敏元件的制備方法,其特征在于,其具體操作步驟如下:
(1)共沉淀法制備層間為硝酸根的水滑石:
配制含可溶性二價金屬陽離子Zn2+和可溶性三價金屬陽離子M3+的混合鹽溶液,Zn2+和M3+的摩爾比4-1,其中Zn2+的濃度為0.1-1mol/L;配制0.1-5mol/LNaOH溶液,并且用量為NaOH的摩爾數是Zn2+和M3+的摩爾總和的2-5倍;然后在氮氣保護、攪拌條件下,將混合鹽溶液和NaOH溶液共沉淀形成懸浮液;滴加完畢后,繼續攪拌10-40分鐘,然后100-140℃條件下水熱晶化12-48小時,采用去CO2水離心洗滌至中性,于60-70℃干燥12-36小時,得到硝酸根插層水滑石;將得到的硝酸根插層水滑石焙燒形成含ZnO的半導體材料;
(2)制備氣敏元件:
將步驟(1)得到的含ZnO的半導體材料研磨均勻后加入溶劑調成糊狀,然后均勻涂在陶瓷管的外面,將涂好的陶瓷管置于瓷方舟內放在烘箱中20-50℃烘干1-3小時,自然冷卻;然后將陶瓷管的4個電極絲焊接在底座上,將加熱絲從陶瓷管中穿過并將其兩端也焊接在底座上,然后進行老化,制成氣敏元件。
2.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述的M3+選自Al3+、Cr3+、Ga3+、In3+、Co3+、Fe3+、La3+和V3+中的一種或兩種。
3.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,所述的共沉淀法為單滴法或雙滴法;雙滴法是將NaOH溶液和混合鹽溶液同時滴入反應瓶中,并控制反應瓶中溶液pH在6-10之間;單滴法是將NaOH溶液滴入混合鹽溶液中,控制最終pH在5-10之間。
4.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,步驟(1)中所述的焙燒溫度為400-1200℃,優選800-1000℃,升溫速率為5-10℃/分鐘,保溫1-5小時。
5.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,步驟(2)中所述的溶劑為水、乙醇或乙二醇。
6.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,步驟(2)中所述的老化是指置于老化臺上,設置80-120mA的電流,老化12-120小時。
7.根據權利要求1所述的方法,其特征在于,步驟(2)制得的氣敏元件應用于乙醇、甲醇、丙酮、氯仿或甲酰胺氣體的測試。
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