[發明專利]一種二維太赫茲成像系統及其成像方法有效
| 申請號: | 201210108140.1 | 申請日: | 2012-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN102621070A | 公開(公告)日: | 2012-08-01 |
| 發明(設計)人: | 陳堅;吳周令 | 申請(專利權)人: | 吳周令 |
| 主分類號: | G01N21/17 | 分類號: | G01N21/17 |
| 代理公司: | 合肥天明專利事務所 34115 | 代理人: | 金凱 |
| 地址: | 230031 安徽省合肥市高新*** | 國省代碼: | 安徽;34 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 二維 赫茲 成像 系統 及其 方法 | ||
1.一種二維太赫茲成像系統,其特征在于:包括有順次設置的飛秒激光器、衍射分光裝置、激光聚焦透鏡、太赫茲光導天線陣列、太赫茲成像透鏡、太赫茲聚焦透鏡和太赫茲探測器。
2.根據權利要求1所述的一種二維太赫茲成像系統,其特征在于:所述的衍射分光裝置選用分光光柵。
3.根據權利要求1所述的一種二維太赫茲成像系統,其特征在于:所述的太赫茲探測器選用太赫茲功率探測器或太赫茲場探測器。
4.根據權利要求1所述的一種二維太赫茲成像系統的成像方法,其特征在于:包括以下步驟:
(1)、先將成像物體放置于太赫茲成像透鏡和太赫茲聚焦透鏡之間;
(2)、飛秒激光器發出的激光光束經過衍射分光裝置被分成等光強的、呈等間距陣列分布的光束組,光束組經過激光聚焦透鏡照射到太赫茲光導天線陣列上產生等光強、呈陣列分布的太赫茲波束組;
(3)、太赫茲波束組經過太赫茲成像透鏡后照射到成像物體上,然后經過成像物體的太赫茲波束組由太赫茲聚焦透鏡會聚到太赫茲波探測器上,獲得二維太赫茲圖像。
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