[發明專利]一種含氟抗指紋劑的制備方法無效
| 申請號: | 201210107810.8 | 申請日: | 2012-04-13 |
| 公開(公告)號: | CN102643303A | 公開(公告)日: | 2012-08-22 |
| 發明(設計)人: | 楊華杰;王忠華;魏瀟 | 申請(專利權)人: | 阜新恒通氟化學有限公司 |
| 主分類號: | C07F7/18 | 分類號: | C07F7/18;B01F17/54;C03C17/30 |
| 代理公司: | 錦州遼西專利事務所 21225 | 代理人: | 李輝 |
| 地址: | 123000 遼寧省*** | 國省代碼: | 遼寧;21 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 一種 含氟抗 指紋 制備 方法 | ||
1.一種含氟抗指紋劑的制備方法,其特征是具體步驟如下:
將摩爾比為1:1.1~1:1.2的全氟烷基乙醇和異氰酸烷基三烷氧基硅烷作為反應底物,在30℃~60℃溫度下,進行加成反應1h~3h,制備得到粗產物;經減壓蒸餾除去過量的異氰酸烷基三烷氧基硅烷,得含氟抗指紋劑濃縮液;將含氟抗指紋劑濃縮液用1,1,2,2-四氟乙基甲基醚稀釋成0.1%~0.3%的溶液,制得最終產品含氟抗指紋劑。
2.根據權利要求1所述的含氟抗指紋劑的制備方法,其特征是:所述的反應底物全氟烷基乙醇,其結構式為RfCH2CH2OH,其中,Rf是碳數為4~10的直鏈的全氟烷基。
3.根據權利要求1所述的含氟抗指紋劑的制備方法,其特征是:所述的反應底物異氰酸烷基三烷氧基硅烷,其結構式為OCN(CH2)nSi(OR)3,其中n=1~3,R為甲基或乙基。
4.根據權利要求1所述的含氟抗指紋劑的制備方法,其特征是:進行減壓蒸餾時,體系壓力為-0.1~-0.09MPa,加熱溫度為85℃~110℃。
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