[發明專利]光學觸控結構及其制作方法

無效

• 申請號: 201210106988.0
• 申請日: 2012-04-12
• 公開（公告）號: CN103092435A
• 公開（公告）日: 2013-05-08
• 發明（設計）人: 楊明輝
• 申請（專利權）人: 旭德科技股份有限公司
• 主分類號: G06F3/042
• 分類號: G06F3/042
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 陳小雯

1.一種光學觸控結構，包括：

透明基材，具有上表面；以及

透明光學堆疊層，配置于該透明基材的該上表面上且暴露出部分該上表面，該透明光學堆疊層是由至少一第一透明光學層與至少一第二透明光學層堆疊而成，且該第一透明光學層的折射率大于該第二透明光學層的折射率，其中該透明光學堆疊層適于讓一可見光穿透且具有一粗糙表面，當一紅外光入射至該透明光學堆疊層時，該透明光學堆疊層反射該紅外光，而該粗糙表面散射該紅外光。

2.如權利要求1所述的光學觸控結構，其中該透明基材的材質包括玻璃或塑膠。

3.如權利要求1所述的光學觸控結構，其中該第一透明光學層的折射率與該第二透明光學層的折射率的差大于等于0.4。

4.如權利要求3所述的光學觸控結構，其中該第一透明光學層的折射率介于2.0至2.5之間。

5.如權利要求3所述的光學觸控結構，其中該第二透明光學層的折射率介于1.4至1.6之間。

6.如權利要求1所述的光學觸控結構，其中該第一透明光學層的材質包括五氧化二鈮(Nb₂O₅)、五氧化二鉭(Ta₂O₅)、二氧化鈦(TiO₂)、硫化鋅(ZnS)或二氧化鋯(ZrO₂)。

7.如權利要求1所述的光學觸控結構，其中該第二透明光學層的材質包括二氧化硅(SiO₂)。

8.如權利要求1所述的光學觸控結構，其中該粗糙表面的中心線平均粗糙度大于等于0.03微米。

9.一種光學觸控結構的制作方法，包括：

提供一透明基材，該透明基材具有上表面；以及

形成一透明光學堆疊層于該透明基材的該上表面上，該透明光學堆疊層是由至少一第一透明光學層與至少一第二透明光學層堆疊而成，且該第一透明光學層的折射率大于該第二透明光學層的折射率，其中該透明光學堆疊層暴露出該透明基材的部分該上表面，而該透明光學堆疊層適于讓一可見光穿透且具有一粗糙表面，當一紅外光入射至該透明光學堆疊層時，該透明光學堆疊層反射該紅外光，而該粗糙表面散射該紅外光。

10.如權利要求9所述的光學觸控結構的制作方法，其中形成該透明光學堆疊層的步驟，包括：

以真空鍍膜方式于該透明基材的該上表面上形成堆疊的至少一第一透明材料層與至少一第二透明材料層，其中該第一透明材料層或該第二透明材料層完全覆蓋該透明基材的該上表面，而該第一透明材料層與該第二透明材料層彼此堆疊且共形設置；

對最外層的該第一透明材料層或該第二透明材料層進行一表面處理，以形成該粗糙表面；以及

對該第一透明材料層與該第二透明材料層進行一圖案化步驟，以形成該第一透明光學層與該第二透明光學層，而構成具有該粗糙表面的該透明光學堆疊層。

11.如權利要求10所述的光學觸控結構的制作方法，其中該表面處理的方法包括表面微蝕、大氣壓等離子體成膜法或顆粒涂布法。

12.如權利要求10所述的光學觸控結構的制作方法，其中該圖案化步驟包括蝕刻法。

13.如權利要求9所述的光學觸控結構的制作方法，其中形成該透明光學堆疊層的步驟，包括：

以光刻或印刷方式于該透明基材的該上表面上形成一圖案化膜層，其中該圖案化膜層具有一頂面，且該圖案化膜層暴露出該透明基材的部分該上表面；

以真空鍍膜方式于該透明基材的該上表面上以及該圖案化膜層的該頂面上形成堆疊的至少一第一透明材料層與至少一第二透明材料層，其中該第一透明材料層或該第二透明材料層完全覆蓋該透明基材的該上表面以及該圖案化膜層的該頂面，而該第一透明材料層與該第二透明材料層彼此堆疊且共形設置；

對最外層的該第一透明材料層或該第二透明材料層進行一表面處理，以形成該粗糙表面；以及

移除該圖案化膜層及位于其上的部分該第一透明材料層與部分該第二透明材料層，以暴露出該透明基材的部分該上表面，而形成該第一透明光學層與該第二透明光學層，并構成具有該粗糙表面的該透明光學堆疊層。

14.如權利要求13所述的光學觸控結構的制作方法，其中該圖案化膜層的材質包括有機材料。