[發(fā)明專利]光掩模用基板、光掩模、光掩模制造方法及圖案轉印方法

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210106975.3
• 申請日: 2012-04-12
• 公開（公告）號: CN102736402A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設計）人: 土屋雅譽;池邊壽美
• 申請（專利權）人: HOYA株式會社
• 主分類號: G03F1/60
• 分類號: G03F1/60;G03F7/00;G03F7/20;G02B5/20
• 代理公司: 北京三友知識產權代理有限公司 11127
• 代理人: 李輝;黃綸偉

1.一種光掩模用基板，其用于在第1主表面上形成轉印用圖案而成為光掩模，且該光掩模用基板的厚度為T，該光掩模用基板的特征在于，

在處于所述第1主表面的背面的第2主表面上，相隔10mm的任意兩點的高低差為ΔZb時，所述第2主表面的與所述第1主表面的圖案形成區(qū)域對應的區(qū)域內的ΔZb滿足ΔZb≤(1/T)×3.0，

其中，所述T的單位是mm，所述ΔZb的單位是μm。

2.一種光掩模，其在第1主表面上形成有轉印用圖案，且該光掩模的厚度為T，該光掩模的特征在于，

在處于所述第1主表面的背面的第2主表面上，相隔10mm的任意兩點的高低差為ΔZb時，所述第2主表面的與所述第1主表面的圖案形成區(qū)域對應的區(qū)域內的ΔZb滿足ΔZb≤(1/T)×3.0，

其中，所述T的單位是mm，所述ΔZb的單位是μm。

3.根據權利要求2所述的光掩模，其特征在于，

該光掩模用于接近式曝光。

4.根據權利要求2所述的光掩模，其特征在于，

該光掩模用于制造濾色片。

5.一種光掩模的制造方法，該光掩模在第1主表面上具有轉印用圖案，該光掩模的制造方法的特征在于，

準備厚度為T的光掩模用基板，在該光掩模用基板中，當處于所述第1主表面的背面的第2主表面上的相隔10mm的任意兩點的高低差為ΔZb時，所述第2主表面的與所述第1主表面的圖案形成區(qū)域對應的區(qū)域內的ΔZb滿足ΔZb≤(1/T)×3.0，其中，所述T的單位是mm，所述ΔZb的單位是μm；

在所述光掩模的第1主表面上形成光學膜；

對所述光學膜實施構圖來形成轉印用圖案。

6.一種光掩模的制造方法，該光掩模在第1主表面上具有轉印用圖案，該光掩模的制造方法的特征在于，

在厚度為T的光掩模用基板的處于所述第1主表面的背面的第2主表面上，隔開預定的相隔距離P等間隔地設定多個測定點，其中，所述T的單位是mm，所述P的單位是mm；

分別求出該多個測定點相對于所述第2主表面的基準面的高度Z；

準備滿足如下條件的所述光掩模用基板：當設所述多個測定點的高度Z的最大值與最小值之差為高度變動的最大值ΔZbmax時，ΔZbmax≤(P/T)×0.3；

在所述準備的光掩模用基板的第1主表面上形成光學膜；

在所述光學膜上形成抗蝕劑膜；

將所述光掩模用基板載置于描繪裝置的工作臺上，描繪預定的轉印用圖案；

對描繪后的所述光掩模用基板實施抗蝕劑顯影和光學膜構圖，形成所述轉印用圖案。

7.根據權利要求6所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

將所述相隔距離P設為5mm≤P≤15mm。

8.根據權利要求5或6所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

所述光掩模用于接近式曝光。

9.根據權利要求5或6所述的光掩模的制造方法，其特征在于，

所述轉印用圖案用于制造濾色片。

10.一種圖案轉印方法，使用接近式曝光機，將光掩模具有的轉印用圖案轉印至被轉印體，該圖案轉印方法的特征在于，

利用所述接近式曝光機對權利要求2～4中任意一項所述的光掩模進行曝光。