[發明專利]觸控面板及其觸碰感應層的制造方法

有效

• 申請號: 201210106617.2
• 申請日: 2012-04-12
• 公開（公告）號: CN102707834A
• 公開（公告）日: 2012-10-03
• 發明（設計）人: 曾光義;康良豪;蔡乙誠
• 申請（專利權）人: 華映視訊（吳江）有限公司;中華映管股份有限公司
• 主分類號: G06F3/041
• 分類號: G06F3/041
• 代理公司: 上海漢聲知識產權代理有限公司 31236
• 代理人: 胡晶

技術領域

本發明是有關于一種觸控面板及其觸碰感應層的制造方法，特別是有關于一種觸控面板及其觸碰感應層的制造方法，其透明電極包含有堆棧且電性連接的兩透明金屬圖案。?

背景技術

近年來觸控面板有關的技術突飛猛進，例如電阻式觸控面板、電容式觸控面板、音波式觸控面板、及光學式觸控面板，已被廣泛應用于通訊產品、計算機裝置及消費性電子產品上，藉以大幅增加所應用的電子產品的效能及使用上的便利性。

參考圖1，先前技術揭示一種觸控面板(touch?panel)10，其包含一觸碰感應層(touch?sensor)12，由橫縱交錯隔開的透明導電線路所構成。觸控面板利用手指對橫縱交錯的透明導電線路所產生的電場干擾進行偵測，讀出不同橫縱軸的感應信號，以判定觸碰位置。

由于目前觸控面板的透明導電材料皆為非晶銦錫氧化物(amorphous?ITO)，因此在圖案化制程(例如微影蝕刻制程)為使用草酸蝕刻出圖案化的銦錫氧化物。若銦錫氧化物膜厚太厚，則在成膜制程(例如濺鍍制程)中可能會使銦錫氧化物多晶(poly)化。當使用草酸蝕刻多晶銦錫氧化物時，會發生有銦錫氧化物殘留，而需以王水(例如硝酸加鹽酸)蝕刻。因此，受限于圖案化制程，銦錫氧化物的膜厚無法太厚。

圖2為公知觸碰感應層的X走向及Y走向的透明電極(XY-Trace)的剖面示意圖。一金屬連接線20配置于一透明基板22上。一絕緣層24配置于該透明基板22及該金屬連接線20上，并裸露該金屬連接線20的一部份。X走向的透明電極26及Y走向的透明電極28配置于該絕緣層上，且X走向的透明電極26電性連接于該金屬連接線20的裸露部份。一保護層30覆蓋該絕緣層24的裸露部分、X走向的透明電極26及Y走向的透明電極28。然而，X走向的透明金屬透明電極及Y走向的透明電極28受限于銦錫氧化物的膜厚無法太厚的條件下，觸碰感應層的X走向及Y走向的透明金屬透明電極會有較高的電阻值。

因此，便有需要提供一觸控面板，能夠解決前述的問題。?

發明內容

本發明提供一種觸控面板，其包含：一觸碰感應層，包含一第一透明電極及一第二透明電極。該第一透明電極包含一第一透明金屬圖案及一第二透明金屬圖案，該第二透明金屬圖案堆棧且電性連接于該第一透明金屬圖案。該第二透明電極包含一第三透明金屬圖案及一第四透明金屬圖案，該第四透明金屬圖案堆棧且電性連接于該第三透明金屬圖案，其中該第一透明金屬圖案與該第三透明金屬圖案藉由同一制程以相同材料而形成，且該第二透明金屬圖案與該第四透明金屬圖案藉由同一制程以相同材料而形成。

本發明利用雙層透明金屬圖案的結構，可改善目前觸控面板的非晶銦錫氧化物厚度無法太厚的問題。本發明使用雙層透明金屬圖案的結構，可降低整體電極的電阻值，并可利用透明金屬圖案的膜厚，以調整觸控面板的色偏問題。

為了讓本發明的上述和其它目的、特征、和優點能更明顯，下文將配合所附圖示，作詳細說明如下。

附圖說明

圖1為公知觸控面板的觸碰感應層的平面示意圖；

圖2為公知觸控面板的觸碰感應層的剖面示意圖；

圖3為本發明的第一實施例的觸控面板的觸碰感應層的平面示意圖，其中保護層被省略而不顯示；

圖4為本發明的第一實施例的觸控面板的觸碰感應層的剖面示意圖，其顯示沿圖3的剖線B-B’的剖面；

圖5為本發明的第一實施例的觸控面板的觸碰感應層的剖面示意圖，其顯示沿圖3的剖線C-C’的剖面；

圖6A為本發明的第一實施例的第一及第三透明金屬圖案的平面示意圖；

圖6B為本發明的第一實施例的第二及第四透明金屬圖案的平面示意圖；

圖7為本發明的一實施例的觸控面板的觸碰感應層的制造方法的流程圖；

圖8為本發明的另一實施例的第二及第四透明金屬圖案的平面示意圖；

圖9為本發明的另一實施例的觸控面板的觸碰感應層的剖面示意圖，其顯示沿圖8的剖線D-D’的剖面；

圖10為本發明的另一實施例的觸控面板的觸碰感應層的剖面示意圖，其顯示沿圖8的剖線E-E’的剖面；

圖11為本發明的第二實施例的觸控面板的觸碰感應層的平面示意圖，其中保護層被省略而不顯示；

圖12為本發明的第二實施例的觸控面板的觸碰感應層的剖面示意圖，其顯示沿11的剖線F-F’的剖面；

圖13為本發明的第二實施例的觸控面板的觸碰感應層的剖面示意圖，其顯示沿圖11的剖線G-G’的剖面；