[發明專利]用于輻照規劃的方法和輻照規劃裝置

有效

• 申請號: 201210105006.6
• 申請日: 2012-04-11
• 公開（公告）號: CN102728006A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發明（設計）人: A.格默爾;E.里澤爾
• 申請（專利權）人: 西門子公司
• 主分類號: A61N5/10
• 分類號: A61N5/10
• 代理公司: 北京市柳沈律師事務所 11105
• 代理人: 謝強

1.一種用于粒子治療輻照流程的輻照規劃的方法，其中沿著多個在射線方向上先后布置的等能量層(13，15，17，18)來施加劑量，包括以下步驟：

-規定待輻照的目標體積(11)，

-確定最近側的等能量層(13)關于所述待輻照的目標體積(11)的第一位置，

-在使用第一位置的條件下確定在該最近側的等能量層(13)的遠側的至少另一個等能量層(17，18)關于該待輻照的目標體積(11)的第二位置。

2.根據權利要求1所述的方法，其中，至少另一個等能量層(17，18)位于最近側的等能量層(13)和最遠側的等能量層(15)之間，并且其中，該第二位置通過如下來確定，即，確定最遠側的等能量層(15)關于所述待輻照的目標體積(11)的第三位置，并且在使用第三位置的條件下確定第二位置。

3.根據權利要求1或2所述的方法，其中，在確定等能量層(13，15，17，18)的位置時確定高劑量區域(13′，15′，17′，18′)，其表征具有確定的劑量施加的與等能量層對應的區域，并且在使用與該等能量層(13，15，17，18)對應的高劑量區域(13′，15′，17′，18′)的條件下進行對等能量層(13，15，17，18)的位置確定。

4.根據權利要求3所述的方法，其中，確定所述高劑量區域(13′，15′，17′，18′)的尺寸，并且具體來說是根據所使用的粒子種類、所使用的粒子的起始能量和/或在規劃的輻照中要使用的粒子治療裝置的設置。

5.根據權利要求4所述的方法，其中，在確定最近側的等能量層(13)的第一位置時這樣定位對應的高劑量區域(13′)，使得高劑量區域(13′)的近側的邊(21)比高劑量區域(13′)的遠側的邊(23)更靠近目標體積(11)的近側的邊(25)。

6.根據上述權利要求1至5中任一項所述的方法，其中，進行所述目標體積(11)到水當量體的換算，并且其中，在使用換算后的目標體積的條件下進行最近側的等能量層(13)關于待輻照的目標體積(11)的第一位置的確定。

7.一種用于粒子治療輻照流程的輻照規劃的輻照規劃裝置，其中沿著多個在射線方向上先后布置的等能量層(13，15，17，18)施加劑量，所述輻照規劃裝置包括：

輸入裝置(77)，用于預先給出待輻照的目標體積(11)，

層定位裝置(79)，

-用于確定最近側的等能量層(13)關于所述待輻照的目標體積(11)的第一位置，和

-用于在使用第一位置的條件下確定位于最近側的等能量層(13)的遠側的另一個等能量層(17，18)關于該待輻照的目標體積(11)的第二位置。

8.根據權利要求7所述的輻照規劃裝置，其中，所述輻照規劃裝置被構造為用于執行權利要求1至6中任一項所述的方法。