[發(fā)明專利]襯底處理裝置及搬運(yùn)裝置

無效

• 申請(qǐng)?zhí)枺?/td>: 201210104814.0
• 申請(qǐng)日: 2012-04-06
• 公開（公告）號(hào): CN102738262A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設(shè)計(jì)）人: 西谷英輔;國井泰夫;豐田一行;吉田秀成;石坂光范
• 申請(qǐng)（專利權(quán)）人: 株式會(huì)社日立國際電氣
• 主分類號(hào): H01L31/032
• 分類號(hào): H01L31/032;H01L31/18;H01L21/677
• 代理公司: 北京市金杜律師事務(wù)所 11256
• 代理人: 楊宏軍

1.一種襯底處理裝置，具有：

處理室，容納多個(gè)襯底，所述襯底形成有由銅-銦、銅-鎵或銅-銦-鎵中的任一種形成的層合膜；

反應(yīng)管，以構(gòu)成所述處理室的方式形成；

氣體供給管，向所述處理室中導(dǎo)入含硒元素氣體或含硫元素氣體；

排氣管，將所述處理室內(nèi)的氣體排出；

加熱部，以包圍上述反應(yīng)管的方式設(shè)置；及

風(fēng)扇，在所述多個(gè)玻璃襯底的表面上，使所述處理室內(nèi)的氣體在所述多個(gè)玻璃襯底的短邊方向上強(qiáng)制對(duì)流。

2.如權(quán)利要求1所述的襯底處理裝置，其中，沿著所述襯底的長邊方向配置多個(gè)所述風(fēng)扇。

3.如權(quán)利要求1或2所述的襯底處理裝置，還具有在所述多個(gè)襯底的長邊方向上延伸的、以夾持所述多個(gè)襯底的方式設(shè)置的一對(duì)內(nèi)壁。

4.如權(quán)利要求3所述的襯底處理裝置，其中，所述一對(duì)內(nèi)壁進(jìn)一步設(shè)置成夾持所述風(fēng)扇的側(cè)面。

5.如權(quán)利要求1或2所述的襯底處理裝置，其中，

所述風(fēng)扇具有在所述處理室內(nèi)旋轉(zhuǎn)的扇葉部，

對(duì)于所述扇葉部，通過以與所述扇葉部的基材相比硒化耐性或硫化耐性高的物質(zhì)作為主要成分的涂膜涂布所述扇葉部的基材。

6.如權(quán)利要求1或2所述的襯底處理裝置，其中，所述反應(yīng)管的基材由金屬材料形成。

7.如權(quán)利要求6所述的襯底處理裝置，其中，所述反應(yīng)管的至少暴露在所述處理室內(nèi)的氣體中的部分，用與所述反應(yīng)管的基材相比硒化耐性或硫化耐性高的物質(zhì)進(jìn)行涂布。

8.如權(quán)利要求1或2所述的襯底處理裝置，其中，在所述含硒元素氣體或所述含硫元素氣體于所述多個(gè)襯底的表面的流動(dòng)方向的、所述多個(gè)襯底的上游側(cè)，設(shè)置有具有多個(gè)開口部的第1整流板。

9.如權(quán)利要求8所述的襯底處理裝置，在所述含硒元素氣體或所述含硫元素氣體于所述多個(gè)襯底的表面的流動(dòng)的方向的、所述多個(gè)襯底的下游測，設(shè)置有具有多個(gè)開口部的第2整流板。

10.如權(quán)利要求8所述的襯底處理裝置，其中，

沿著所述多個(gè)襯底的長邊方向設(shè)置多個(gè)所述風(fēng)扇，

所述第1整流板中，所述風(fēng)扇的正下方區(qū)域的所述開口部的開口率與配置有多個(gè)的所述風(fēng)扇之間的區(qū)域的所述開口部的開口率不同。

11.如權(quán)利要求1或2所述的襯底處理裝置，其中，

所述多個(gè)襯底被保持在保持盒內(nèi)，

在所述多個(gè)襯底的長邊方向上配置多個(gè)所述保持盒。

12.一種搬運(yùn)裝置，將保持有多個(gè)襯底的保持盒搬運(yùn)至處理室內(nèi)，且具有：

支承所述保持盒的支承部；

固定在所述支承部上的車輪部；

使所述支承部及所述車輪部一體工作的臂。

13.如權(quán)利要求12所述的搬運(yùn)裝置，其中，所述搬運(yùn)裝置還具有設(shè)置在所述支承部與所述車輪部之間的可升降的升降部。