[發(fā)明專利]薄膜太陽能電池的絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法

無效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210104462.9
• 申請日: 2012-04-11
• 公開（公告）號: CN102623569A
• 公開（公告）日: 2012-08-01
• 發(fā)明（設(shè)計）人: 賈海軍;賀天太;馮燕;張麗;朱紅兵;潘清濤;麥耀華
• 申請（專利權(quán)）人: 保定天威薄膜光伏有限公司
• 主分類號: H01L31/18
• 分類號: H01L31/18
• 代理公司: 唐山順誠專利事務(wù)所 13106
• 代理人: 于文順

1.一種薄膜太陽能電池的絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法，其特征在于：包含如下工藝步驟：①在低于100℃條件下采用磁控濺射技術(shù)，在襯底上利用不同摻雜濃度的靶材沉積透明導(dǎo)電薄膜；②對制備的透明導(dǎo)電薄膜經(jīng)先退火后化學(xué)濕法刻蝕處理或先化學(xué)濕法刻蝕后退火處理，形成絨面結(jié)構(gòu)；③經(jīng)上述工藝步驟后獲得適用于薄膜太陽能生產(chǎn)的絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜。

2.根據(jù)權(quán)利要求1所述之薄膜太陽能電池的絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法，其特征在于所述低于100℃條件下為室溫條件。

3.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述之薄膜太陽能電池的絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法，其特征在于所述在襯底上利用不同摻雜濃度的靶材沉積透明導(dǎo)電薄膜，透明導(dǎo)電薄膜為氧化鋅薄膜、硼摻雜ZnO薄膜、金屬元素?fù)诫sZnO薄膜、金屬元素?fù)诫s氧化錫薄膜，靶材即為上述薄膜相應(yīng)的材料。

4.根據(jù)權(quán)利要求3所述之薄膜太陽能電池的絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法，其特征在于金屬元素?fù)诫sZnO薄膜包括：鋁摻雜ZnO薄膜、鎵摻雜ZnO薄膜，靶材即為上述薄膜相應(yīng)的材料。

5.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述之薄膜太陽能電池的絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法，其特征在于所述磁控濺射技術(shù)，包括射頻、直流和中頻；所述襯底為超白浮法玻璃、透明聚酯膜、不銹鋼襯底材料。

6.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述之薄膜太陽能電池的絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法，其特征在于所述磁控濺射技術(shù)使用的磁控濺射設(shè)備，具有溫度可控的襯底加熱系統(tǒng)和水冷循環(huán)系統(tǒng)。

7.根據(jù)權(quán)利要求6所述之薄膜太陽能電池的絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法，其特征在于大磁控濺射設(shè)備所用靶材為不同摻雜濃度的ZnO:Al₂O₃陶瓷靶材，摻雜濃度體積比為0.1-3%，陶瓷靶材形狀為矩形平板或圓柱旋轉(zhuǎn)靶材。

8.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述之薄膜太陽能電池的絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法，其特征在于所述化學(xué)濕法刻蝕處理，使用的刻蝕溶液為稀釋的無機(jī)酸、堿或鹽，其中酸為鹽酸、硫酸、磷酸，堿為氫氧化鉀、氫氧化鈉，鹽為氯化銨，濃度>0.1%。

9.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述之薄膜太陽能電池的絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法，其特征在于所述退火處理，所采用的退火設(shè)備溫度范圍為>100℃，退火時間不限。

10.根據(jù)權(quán)利要求1或2所述之薄膜太陽能電池的絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜的制備方法，其特征在于所述絨面透明導(dǎo)電氧化物薄膜的波長為600nm，處霧度>30%。