[發(fā)明專利]一種用于光刻機(jī)的浸沒控制裝置有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210103398.2 | 申請(qǐng)日: | 2012-04-10 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102621818A | 公開(公告)日: | 2012-08-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 李金龍;胡松;趙立新;李蘭蘭;盛壯 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中國科學(xué)院光電技術(shù)研究所 |
| 主分類號(hào): | G03F7/20 | 分類號(hào): | G03F7/20 |
| 代理公司: | 北京科迪生專利代理有限責(zé)任公司 11251 | 代理人: | 楊學(xué)明;顧煒 |
| 地址: | 610209 *** | 國省代碼: | 四川;51 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 用于 光刻 浸沒 控制 裝置 | ||
1.一種用于光刻機(jī)浸沒控制裝置,在光刻機(jī)的投影透鏡組末端元件(1)和待刻硅片(3)間設(shè)置的該浸沒控制裝置(2),其特征在于:所述的浸沒控制裝置(2)包括:蓋板(5)、外構(gòu)件(6)和內(nèi)構(gòu)件(7),蓋板(5)為環(huán)形板,其上由中心向外沿徑向依次開有注液口(17)、出液口(20)、進(jìn)氣口(8);外構(gòu)件(6)為帶有階梯形狀的環(huán)形板;內(nèi)構(gòu)件(7)為環(huán)形板,其外側(cè)為階梯形狀,外構(gòu)件(6)與內(nèi)構(gòu)件(7)的階梯形狀相配合,共同構(gòu)成儲(chǔ)氣槽(9)和狹縫(10),內(nèi)側(cè)為與投影透鏡組末端元件(1)形狀相匹配的錐形,其下部沿徑向向外依次開有:出液下環(huán)槽(15)、環(huán)形均壓槽(11),內(nèi)構(gòu)件(7)的環(huán)形均壓槽(11)內(nèi)固定有彈性元件(12),內(nèi)構(gòu)件(7)的出液下環(huán)槽內(nèi)(15)固定有多孔介質(zhì)(16),其上部沿徑向向外依次開有扇形槽(19)、注液孔(17)、出液上環(huán)槽(13),其中出液上環(huán)槽(13)與出液下環(huán)槽(15)通過均布的通孔(14)連接;浸沒液體(4)經(jīng)注液口(17)、注液孔(18)進(jìn)入扇形槽(19),沿扇形槽(19)的邊緣填充投影透鏡組末端元件(1)和硅片(3)間的間隙;出液口(20)連接真空低壓,當(dāng)浸沒液體流經(jīng)多孔介質(zhì)(16)時(shí)經(jīng)出液下環(huán)槽(15)、通孔(14)進(jìn)入出液上環(huán)槽,再被真空吸附經(jīng)出液口(17)流出該浸沒曝光裝置(2);外部加壓氣體經(jīng)進(jìn)氣口(8)注入儲(chǔ)氣槽(9),再經(jīng)狹縫(10)進(jìn)入該浸沒控制裝置(2)下表面和硅片(3)間的間隙形成邊緣狹縫氣密封。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述浸沒控制裝置,其特征在于:所述內(nèi)構(gòu)件(7)的扇形槽(19)角度為60°-120°。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述浸沒控制裝置,其特征在于:所述外構(gòu)件(6)與內(nèi)構(gòu)件(7)與蓋板(5)通過螺釘連接并采用O型圈進(jìn)行氣密封。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述浸沒控制裝置,其特征在于:所述外構(gòu)件(6)的下表面與內(nèi)構(gòu)件(7)的下表面在同一水平面。
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