[發明專利]1,4-雙(氯二氟甲基)苯的簡易式高效率制備方法

有效

• 申請號: 201210102699.3
• 申請日: 2012-04-10
• 公開（公告）號: CN103102242A
• 公開（公告）日: 2013-05-15
• 發明（設計）人: 林俊旭;鄞弘政;孫謙益;鄞永裕;周娟玉
• 申請（專利權）人: 元欣科技材料股份有限公司
• 主分類號: C07C22/08
• 分類號: C07C22/08;C07C17/14
• 代理公司: 中科專利商標代理有限責任公司 11021
• 代理人: 周長興

技術領域

本發明是關于一種制備1，4-雙(氯二氟甲基)苯(1，4-Bis(chlorodifluoromethyl)benzene)的方法，尤其指一種工藝簡單、反應時間短且產率高的批次式或連續式用以制備1，4-雙(氯二氟甲基)苯的方法。?

背景技術

聚對二甲苯(parylene)采用真空熱解化學氣相堆積(CVD)工藝制備，可制成極薄的薄膜，具有極其優良的電性能、耐熱性、化學穩定性和無色高透明度等，主要用作薄膜和涂層，廣泛應用于印刷電路板的電性隔絕、傳感器或醫療儀器的防潮保護、電子組件的電絕緣介質、保護性涂料和封裝材料以及金屬鍍膜的防蝕等。?

近來，由于含氟的聚對二甲苯，如聚(四氟-對二甲苯)具有如下式(1)的結構：?

式(1)?

其具有高熔點及低介電常數，加上優越的抗紫外和抗老化性能，可應用于電子組件及涂料工業的介電薄膜。目前，含氟聚對二甲苯的涂敷方式是經由較活性的單體(monomer)聚合于物體表面上，而不同于一般常見經由液體涂層的方法制備，其涂敷過程先將類似對二甲苯的二聚物(dimer)，如八氟-2，2-對擬環物(Octafluoro-(2，2)-paracyclophane；AF4)(如下式(2))加熱氣化，再通過高溫裂解為含氟對二甲苯(para-xylene)的單體自由基(monomer?free?radical)，然后沉積于被鍍對象上聚合，形成聚(四氟對二甲苯)，即俗稱的parylene?HT，如式(1)。?

式(2)?

簡稱AF4?

其中，制備上述含氟對二甲苯的二聚物(AF4)的關鍵前驅物的一為1，4-雙(氯二氟甲基)苯(1，4-bis(chlorodifluoromethyl)benzene)，其結構如下式(3)所示。?

式(3)?

目前已知的1，4-雙(氯二氟甲基)苯制備方法，是將1，4-雙(二氟甲基)苯(1，4-bis(difluoromethyl)benzene)溶于一溶劑中，如四氯化碳(carbontetrachloride)，并提供一光起始劑，將氯氣通入反應溶液后，經照光后，光起始劑可催化1，4-雙(二氟甲基)苯反應，而得1，4-雙(氯二氟甲基)苯。然而，此方法的缺點為反應時間長、產率低，以及必須使用環保管制溶劑(CCl₄)或光起始劑，并經由較復雜的純化步驟，且耗用多量的能源才能夠獲得最終產物。?

因此，如何提供一個快速、容易純化、低成本且適合大量生產的1，4-雙(氯二氟甲基)苯制備方法為目前尚待解決的課題。而本發明即為提供含氟對二甲苯的二聚物的關鍵前驅物1，4-雙(氯二氟甲基)苯的一簡易且低成本的大量制備方法。?

發明內容

本發明的目的在于提供一種制備1，4-雙(氯二氟甲基)苯的方法，以克服公知技術中存在的缺陷。?

為實現上述目的，本發明提供的1，4-雙(氯二氟甲基)苯(1，4-Bis(chlorodifluoromethyl)benzene)的簡易合成方法，其步驟包括：?

(A)提供一包含1，4-雙(二氟甲基)苯(1，4-Bis(difluoromethyl)benzene)的反應溶液；以及?

(B)于溫度50-90℃且壓力大于1atm下通入氯氣(Cl₂)至該反應溶液，以得到1，4-雙(氯二氟甲基)苯。?

所述的合成方法，其中，于步驟(B)中，包括以一光源照射該反應物。?

所述的合成方法，其中，該光源為一紫外線光源。?

所述的合成方法，其中，該紫外線光源的強度為10-400W。?

所述的合成方法，其中，該光源為一水銀汞燈光源。?

所述的合成方法，其中，該水銀汞燈光的強度為300-1000W。?

所述的合成方法，其中，氯氣及1，4-雙(二氟甲基)苯的摩爾比介于2∶1至4∶1之間。?

所述的合成方法，其中，該合成方法的反應壓力為1.001至1.10atm。?

所述的合成方法，其中，于步驟(B)中，包括以一堿性溶液中和多余未反應的氯氣。?

所述的合成方法，其中，該中和反應所使用的堿性溶液為KOH、NaOH或NH₄OH溶液。?

所述的合成方法，其中，該反應溫度介于70-90℃之間。?

所述的合成方法，其中，該反應溫度介于50-70℃之間。?