[發(fā)明專利]基板處理裝置

有效

• 申請?zhí)枺?/td>: 201210101409.3
• 申請日: 2012-03-31
• 公開（公告）號: CN102738048A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發(fā)明（設計）人: 菅原榮一
• 申請（專利權）人: 東京毅力科創(chuàng)株式會社
• 主分類號: H01L21/677
• 分類號: H01L21/677;H01L21/67
• 代理公司: 北京尚誠知識產權代理有限公司 11322
• 代理人: 龍淳

1.一種基板處理裝置，其特征在于，包括：

搬送基板的常壓氣氛的常壓搬送室；

經由負載鎖定室與該常壓搬送室連接，對基板進行真空處理的真空處理室；

設置于所述真空處理室，具有主體部和相對于該主體部自由裝卸的表面部的基板載置臺；

設置于所述負載鎖定室或常壓搬送室，用于收納所述表面部的保管部；和

從常壓搬送室經由負載鎖定室向真空處理室搬送基板，此外在所述保管部與所述真空處理室的主體部之間搬送所述表面部的搬送機構。

2.如權利要求1所述的基板處理裝置，其特征在于：

設置有位于所述負載鎖定室與所述真空處理室之間的真空氣氛的真空搬送室。

3.如權利要求2所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述保管部，代替設置于所述負載鎖定室或常壓搬送室，而與所述負載鎖定室和真空處理室劃分開，與所述真空搬送室連接，

具有切換該保管部相對于真空搬送室的開放和隔斷的分隔閥，使得能夠在所述真空搬送室處于真空氣氛的狀態(tài)下，將所述保管部的內部從真空氣氛變?yōu)槌簹夥铡?/p>

4.如權利要求3所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述保管部包括相互劃分開的第一保管部和第二保管部，

所述分隔閥分別設置于第一保管部、第二保管部，能夠相互獨立地開閉。

5.如權利要求1～4中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述表面部具有載置基板的載置面，

所述保管部具有用于保持所述表面部的保持部，

所述搬送機構在基板被載置于所述表面部的狀態(tài)下將該基板從保管部搬送至真空處理室。

6.如權利要求5所述的基板處理裝置，其特征在于：

設置有定位機構，在將表面部和基板搬送至所述保持部之前，進行相對于該保持部的定位，使得將基板載置在所述載置面的預先設定的位置。

7.如權利要求1～4中任一項所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述真空處理室用于對基板進行等離子體處理。

8.如權利要求7所述的基板處理裝置，其特征在于：

所述表面部具有用于吸附基板的靜電吸盤和包圍基板的外周、用于控制等離子體的狀態(tài)的聚焦環(huán)中的至少任一種。