[發(fā)明專利]薄膜太陽能電池飛秒激光刻蝕工藝無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210100780.8 | 申請日： | 2012-04-09 |
| 公開（公告）號： | CN102615433A | 公開（公告）日： | 2012-08-01 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 景超 | 申請（專利權(quán)）人： | 鎮(zhèn)江大成新能源有限公司 |
| 主分類號： | B23K26/36 | 分類號： | B23K26/36;H01L31/18 |
| 代理公司： | 南京蘇高專利商標(biāo)事務(wù)所(普通合伙) 32204 | 代理人： | 柏尚春 |
| 地址： | 212132 江蘇*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 薄膜 太陽能電池 激光 刻蝕 工藝 | ||
1.一種薄膜太陽能電池飛秒激光刻蝕工藝，其特征在于包括以下步驟：
（1）通過機械手臂將太陽能電池材料放置于操作平臺上，通過控制系統(tǒng)定義加工參數(shù)；
（2）聚焦激光光束在太陽能電池材料表面，飛秒激光提高太陽能電池材料表面溫度，按照預(yù)設(shè)編程進行刻蝕工作；
（3）刻蝕結(jié)束，更換新的太陽能電池材料重復(fù)上述步驟。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜太陽能電池飛秒激光刻蝕工藝，其特征在于：不同波長的激光在太陽能電池材料各層上刻畫特定的圖樣，實現(xiàn)內(nèi)部級聯(lián)。
3.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜太陽能電池飛秒激光刻蝕工藝，其特征在于：刻蝕速度不高于1000mm/s。
4.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜太陽能電池飛秒激光刻蝕工藝，其特征在于：刻蝕線寬為1～400微米。
5.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜太陽能電池飛秒激光刻蝕工藝，其特征在于：線寬一致性≤8%。
6.根據(jù)權(quán)利要求1所述的薄膜太陽能電池飛秒激光刻蝕工藝，其特征在于：激光光束覆蓋范圍1200×1200mm。
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