[發(fā)明專利]一種檢測液晶基板的設備及方法有效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210100178.4 | 申請日: | 2012-04-06 |
| 公開(公告)號: | CN102654659A | 公開(公告)日: | 2012-09-05 |
| 發(fā)明(設計)人: | 楊銀勇;金楻 | 申請(專利權(quán))人: | 京東方科技集團股份有限公司;成都京東方光電科技有限公司 |
| 主分類號: | G02F1/13 | 分類號: | G02F1/13;G02F1/1335;G02F1/133 |
| 代理公司: | 北京中博世達專利商標代理有限公司 11274 | 代理人: | 申健 |
| 地址: | 100015 *** | 國省代碼: | 北京;11 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 一種 檢測 液晶 設備 方法 | ||
技術(shù)領(lǐng)域
本發(fā)明涉及液晶顯示技術(shù)領(lǐng)域,尤其涉及一種檢測液晶基板的設備及方法。
背景技術(shù)
液晶顯示面板主要包括對盒成型的彩膜基板和TFT(Thin?Film?Transistor薄膜場效應晶體管)陣列基板,以及位于所述彩膜基板和所述TFT陣列基板之間的液晶層,在液晶顯示面板的生產(chǎn)過程中,為了及早發(fā)現(xiàn)液晶顯示面板中的質(zhì)量問題,會對液晶顯示面板是制造過程中的Q-panel(1/4面板)基板進行檢測。對于Q-panel基板主要利用的是光學檢測法進行檢測,即在對于Q-panel基板上下分別添加偏光片,并在該基板的像素電極上加載電壓,使得Q-panel基板中的TFT基板與彩膜基板之間產(chǎn)生電場,從而液晶分子在電場的作用下發(fā)生偏轉(zhuǎn),當有背光源從射入時,檢測人員就能夠看到光線通過Q-panel基板,進而對基板進行檢測。
但是,由于設計上的缺陷,目前FF?S(Fringe?Field?Switching,邊緣電場驅(qū)動)型的Q-panel(1/4面板)基板沒有預留電極邊,所以不能像留有電極邊的TN(Twisted?Nematic扭曲向列)型Q-panel基板那樣,在Cell工序段利用電極邊進行加載電信號的檢測,只能在2nd?Cutting(2次切割)之后進行ET(Electrical?Test,電學測試)檢測,這樣的局限性大大地增加了FFS型Q-panel基板的生產(chǎn)的風險,有可能造成重大的損失。
發(fā)明內(nèi)容
本發(fā)明的實施例提供一種檢測液晶基板的設備及方法,能夠?qū)FS型液晶基板進行加載電信號的檢測,提高了良品率。
為達到上述目的,本發(fā)明的實施例采用如下技術(shù)方案:
一種檢測液晶基板的設備,包括:
透明載臺,用于承載待測液晶基板;
第一偏光片,位于所述透明載臺上方;
第二偏光片,位于所述透明載臺下方;
背光源,位于所述第二偏光片下方,所述背光源發(fā)出的光線穿過所述第二偏光片、所述透明載臺到達所述第一偏光片;其特征在于,所述設備還包括:
第一透明電極層,位于所述透明載臺上方;
第二透明電極層,位于所述透明載臺下方;
信號加載單元,與所述第一透明電極層、第二透明電極層電連接,用于向所述第一透明電極層、第二透明電極層加載電信號,以使所述第一透明電極層和所述第二透明電極層之間具有使所述透明載臺上的待測液晶基板的液晶分子偏轉(zhuǎn)的電場。
一種檢測液晶基板的方法,在透明載臺上方,設有第一偏光片,在所述透明載臺下方設有第二偏光片,在所述第二偏光片下方設有背光源,在所述透明載臺上方設有第一透明電極層,在所述透明載臺下方設有第二透明電極層,并且,設置信號加載單元與所述第一透明電極層、第二透明電極層連接;
該檢測方法包括:
在所述透明載物臺上承載待測液晶基板;
通過所述信號加載單元向所述第一透明電極層、第二透明電極層加載電信號,以使得所述第一透明電極層和所述第二透明電極層之間形成使液晶分子發(fā)生偏轉(zhuǎn)的電場;
將所述背光源的光線透過第二偏光片、所述透明載臺,到達所述第一偏光片;
通過到達所述第一偏光片的光線對所述液晶基板進行檢測。
本發(fā)明實施例提供的檢測液晶基板的設備及方法,在該設備上引入平面電場,對FFS型液晶基板進行檢測時,在液晶上下加載電信號形成平面電場,使液晶中的液晶分子偏轉(zhuǎn),以使得背光源發(fā)出的光可以通過液晶,從而實現(xiàn)了對液晶基板的檢測,提高了良品率。
附圖說明
為了更清楚地說明本發(fā)明實施例或現(xiàn)有技術(shù)中的技術(shù)方案,下面將對實施例或現(xiàn)有技術(shù)描述中所需要使用的附圖作簡單地介紹,顯而易見地,下面描述中的附圖僅僅是本發(fā)明的一些實施例,對于本領(lǐng)域普通技術(shù)人員來講,在不付出創(chuàng)造性勞動的前提下,還可以根據(jù)這些附圖獲得其他的附圖。
圖1為本發(fā)明實施例提供的檢測設備的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖2為本發(fā)明另一實施例提供的檢測設備的結(jié)構(gòu)示意圖;
圖3為本發(fā)明實施例提供的檢測設備的方法流程圖。
具體實施方式
下面將結(jié)合本發(fā)明實施例中的附圖,對本發(fā)明實施例中的技術(shù)方案進行清楚、完整地描述,顯然,所描述的實施例僅僅是本發(fā)明一部分實施例,而不是全部的實施例。基于本發(fā)明中的實施例,本領(lǐng)域普通技術(shù)人員在沒有做出創(chuàng)造性勞動前提下所獲得的所有其他實施例,都屬于本發(fā)明保護的范圍。
本發(fā)明提供的檢測液晶基板的設備,如圖1所示,包括:
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G02F 用于控制光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如轉(zhuǎn)換、選通、調(diào)制或解調(diào),上述器件或裝置的光學操作是通過改變器件或裝置的介質(zhì)的光學性質(zhì)來修改的;用于上述操作的技術(shù)或工藝;變頻;非線性光學;光學
G02F1-00 控制來自獨立光源的光的強度、顏色、相位、偏振或方向的器件或裝置,例如,轉(zhuǎn)換、選通或調(diào)制;非線性光學
G02F1-01 .對強度、相位、偏振或顏色的控制
G02F1-29 .用于光束的位置或方向的控制,即偏轉(zhuǎn)
G02F1-35 .非線性光學
G02F1-355 ..以所用材料為特征的
G02F1-365 ..在光波導結(jié)構(gòu)中的





