[發(fā)明專利]Hi-B取向硅鋼磁感應(yīng)強(qiáng)度的測(cè)量方法有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210099417.9 | 申請(qǐng)日: | 2012-04-06 |
| 公開(公告)號(hào): | CN102608551A | 公開(公告)日: | 2012-07-25 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 周順兵;韓榮東;王志奮;吳立新;陳士華;孫宜強(qiáng);歐陽珉路;黃海娥 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 武漢鋼鐵(集團(tuán))公司 |
| 主分類號(hào): | G01R33/12 | 分類號(hào): | G01R33/12 |
| 代理公司: | 武漢開元知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 42104 | 代理人: | 胡鎮(zhèn)西 |
| 地址: | 430080 湖北省武漢市武昌*** | 國(guó)省代碼: | 湖北;42 |
| 權(quán)利要求書: | 查看更多 | 說明書: | 查看更多 |
| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | hi 取向 硅鋼 感應(yīng) 強(qiáng)度 測(cè)量方法 | ||
1.一種Hi-B取向硅鋼磁感應(yīng)強(qiáng)度的測(cè)量方法,包括以下步驟:
1)切取Hi-B取向硅鋼試樣,在試樣上標(biāo)示出晶界線,并將由晶界線所圍成的各個(gè)晶粒進(jìn)行編號(hào),編為1、2……n;
2)將試樣拍攝成照片,采用圖像分析儀測(cè)量出照片中每個(gè)編號(hào)晶粒的面積Sn,其中n=1、2……n,同時(shí)測(cè)量出照片中整個(gè)試樣的面積Sz;
3)采用電子背散射衍射分別測(cè)量出編號(hào)晶粒的沿軋制方向的取向<uvw>,再由公式m=α2β2+β2γ2+γ2α2計(jì)算出編號(hào)晶粒的<uvw>方向的m值,公式中的α、β和γ分別是該<uvw>方向與三個(gè)主晶軸<001>的方向余弦;
4)查得標(biāo)樣的B001,并由公式Buvw=B001(1-m)計(jì)算出每個(gè)編號(hào)晶粒的Buvw;
5)將所測(cè)量的每個(gè)編號(hào)晶粒的面積Sn除以整個(gè)試樣的面積Sz所得值Si作為權(quán)重,再分別乘以相應(yīng)晶粒的Buvw,其值為該晶粒對(duì)整個(gè)試樣的磁感應(yīng)強(qiáng)度貢獻(xiàn),記為Bi=Si×Buvw,所有編號(hào)晶粒的Bi之和,即為該試樣的磁感應(yīng)強(qiáng)度B。
2.根據(jù)權(quán)利要求1所述的Hi-B取向硅鋼磁感應(yīng)強(qiáng)度的測(cè)量方法,其特征在于:在步驟3)中,在采用電子背散射衍射測(cè)量編號(hào)晶粒的取向<uvw>之前,將試樣分割成若干小片。
該專利技術(shù)資料僅供研究查看技術(shù)是否侵權(quán)等信息,商用須獲得專利權(quán)人授權(quán)。該專利全部權(quán)利屬于武漢鋼鐵(集團(tuán))公司,未經(jīng)武漢鋼鐵(集團(tuán))公司許可,擅自商用是侵權(quán)行為。如果您想購(gòu)買此專利、獲得商業(yè)授權(quán)和技術(shù)合作,請(qǐng)聯(lián)系【客服】
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