[發明專利]一種化學機械拋光液

無效

• 申請號: 201210098385.0
• 申請日: 2012-04-05
• 公開（公告）號: CN103360953A
• 公開（公告）日: 2013-10-23
• 發明（設計）人: 何華鋒;王晨
• 申請（專利權）人: 安集微電子科技（上海）有限公司
• 主分類號: C09G1/02
• 分類號: C09G1/02;C23F1/26
• 代理公司: 上海翰鴻律師事務所 31246
• 代理人: 李佳銘

1.一種化學機械拋光液，包括：能侵蝕鎢的化合物和至少一種鎢侵蝕抑制劑，其中，所述鎢侵蝕抑制劑為含胍基的化合物中的一種或多種。

2.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述含胍基的化合物為胍及其衍生物。

3.根據權利要求2所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述胍及其衍生物為單胍及其衍生物、多胍及其衍生物。

4.根據權利要求3所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的胍及其衍生物選自硝酸胍、硫酸胍、碳酸胍、磷酸胍、鹽酸嗎啉胍、乙酸胍、磺胺胍、鹽酸氯丙胍、鹽酸胍、磺酸胍、1-(4-氨丁基)胍硫酸鹽、精氨酸、鹽酸二甲雙胍、鹽酸苯乙雙胍、鹽酸丁雙胍中的一種或多種。

5.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述鎢侵蝕抑制劑含量為質量百分比0.001～1.0wt％。

6.根據權利要求5所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述鎢侵蝕抑制劑含量為質量百分比0.01～0.5wt％。

7.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述能侵蝕鎢的化合物還包含至少一種氧化劑。

8.根據權利要求7所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述氧化劑為過氧化物。

9.根據權利要求8所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述過氧化物為過氧化氫。

10.根據權利要求7所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述氧化劑含量為質量百分比0.1～10wt％。

11.根據權利要求1～10所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的化學機械拋光液還含有過渡金屬鹽。

12.根據權利要求11所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述過渡金屬鹽選自Ag，Cu，Fe鹽中的一種或幾種。

13.根據權利要求12所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述過渡金屬鹽為Ag鹽。

14.根據權利要求13所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述銀鹽選自氟化銀、高氯酸銀、硫酸銀和硝酸銀中的一種或幾種。

15.根據權利要求13所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的化學機械拋光液還含有能產生硫酸根離子的化合物。

16.根據權利要求15所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述能產生硫酸根離子的化合物為硫酸鹽。

17.根據權利要求16所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述能產生硫酸根離子的化合物為非金屬的硫酸鹽。

18.根據權利要求17所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述非金屬硫酸鹽為硫酸銨。

19.根據權利要求15所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述硫酸鹽重量百分比為0.005～1.0wt％。

20.根據權利要求12所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的鐵鹽為硝酸鐵。

21.根據權利要求12所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的銅鹽為硫酸銅。

22.根據權利要求11所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述過渡金屬鹽重量百分比為0.001～0.3wt％。

23.根據權利要求1所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的化學機械拋光液還含有研磨劑。

24.根據權利要求23所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的研磨劑顆粒選自SiO₂、Al₂O₃、ZrO₂、CeO₂、SiC、Fe₂O₃、TiO₂和Si₃N₄中的一種或幾種。

25.根據權利要求24所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述的研磨劑顆粒為SiO₂。

26.根據權利要求23所述的化學機械拋光液，其特征在于，所述研磨劑含量為質量百分比0.1～10wt％。