[發明專利]傳感檢測裝置以及電子設備有效
| 申請號: | 201210098049.6 | 申請日: | 2012-04-05 |
| 公開(公告)號: | CN102727212A | 公開(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發明(設計)人: | 神田榮二;石黑英人;江口司;藤田徹司;山本英利 | 申請(專利權)人: | 精工愛普生株式會社 |
| 主分類號: | A61B5/117 | 分類號: | A61B5/117;G06K9/00;G06K7/10;H04N1/00;H04N1/04 |
| 代理公司: | 北京集佳知識產權代理有限公司 11227 | 代理人: | 李偉;王軼 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 傳感 檢測 裝置 以及 電子設備 | ||
技術領域
本發明涉及向對象物照射光并接收其反射光的傳感檢測裝置以及電子設備。
背景技術
在生物體認證裝置、影像掃描儀中,相對于放置在讀取區域之上的對象物(例如手指、原稿等),發光部與受光部被配置在相同側,從發光部向對象物照射光,由受光部接收其反射光來讀取對象物的圖像。例如,在專利文獻1中記載了一種利用在導光板3的背面形成的多個反射面11將來自光源6的出射光(近紅外光)向手指100照射,并利用具有多個像素PX的受光元件1接收來自手指100的反射光,從而取得手指100的靜脈像的生物體信息取得裝置50。
【專利文獻1】日本特開2009-172263號公報
但是,在專利文獻1所記載的生物體信息取得裝置50中,在向各像素PX入射的反射光的光路上(從各像素PX向垂直方向延伸的直線上),存在對光量比反射光大的來自光源6的出射光進行導光的導光板3。另外,來自光源6的出射光的一部分透過在導光板3的背面側形成的低折射率層21、反射層(半反射層)40而向受光元件1側漏出。因此,在受光元件1中無法高精度地接收來自手指100的反射光。另外,還存在由于導光板3、遮光層2而使生物體信息取得裝置50的厚度增加這一問題。
發明內容
本發明鑒于上述課題而提出,其目的在于,提供一種能夠對來自對象物的反射光高精度地受光,并且能夠使裝置輕薄化的傳感檢測裝置、以及使用了該傳感檢測裝置的電子設備。
為了解決以上的課題,本發明的第1方式涉及的傳感檢測裝置具備發光部、受光部以及遮光層,并從上述發光部向對象物照射光,由上述受光部接收來自上述對象物的反射光,其中,上述發光部以及上述受光部相對于上述對象物設在相同側,上述發光部比上述受光部靠向上述對象物側,上述發光部具備:發光層,其發出向上述對象物照射的照射光;第1電極,其比上述發光層靠向上述對象物側,透過上述照射光以及上述反射光;第2電極,其比上述發光層靠向上述受光部側,對上述照射光以及上述反射光進行遮光并且形成有第1開口部;和絕緣層,其設在與上述第1開口部對應的位置,透過上述照射光以及上述反射光并且使上述第1電極與上述第2電極局部絕緣;上述受光部具備接收上述反射光的受光元件,上述遮光層設在與上述第1開口部對應的位置,對上述照射光以及上述反射光進行遮光并形成有第2開口部,在從上述對象物側俯視觀察的情況下,上述遮光層與上述第1開口部重合,上述受光元件的受光面位于上述第2開口部內。
根據該構成,在從對象物側俯視觀察的情況下,由于發光層中的與受光元件的受光面對應的位置和其周邊(與第1開口部對應的部分)被絕緣層絕緣,所以成為不發出照射光的非發光區域。因此,在向受光元件的受光面入射的反射光的光路上,不存在發出光量比反射光大的照射光的發光區域。而且,由于第2開口部以外的部分被遮光層和第2電極遮光,所以受光元件的受光面被射入來自對象物的反射光中的來自正上方的反射光。另外,能夠通過遮光層和第2電極還抑制從發光層(發光區域)射出的照射光通過第1開口部直接入射到受光元件的受光面的情況。因此,能夠在受光元件中高精度地接收來自對象物的反射光。另外,雖然需要設置第1電極、第2電極、發光層、絕緣層、遮光層,但由于這些各要素可以形成得極薄,所以與專利文獻1所記載的發明相比,能夠降低傳感檢測裝置的厚度。
其中,對象物可以是生物體的一部分(例如手指、手掌、手背、眼睛等),也可以是文件、打印有圖像的紙、OHP(OverHead?Projector)片材等。另外,發光層發出的光的波長可以任意設定。即,照射光、反射光例如可以是近紅外光,也可以是可見光。另外,對第1電極和第2電極而言,可以是第1電極為陽極、第2電極為陰極,也可以是第1電極為陰極、第2電極為陽極。另外,第2開口部的形狀、受光元件的受光面的形狀可以任意決定為矩形、圓形、橢圓、六邊形等。另外,對第2開口部的大小和受光面的大小而言,可以是第2開口部大于受光面,也可以相反,還可以是兩者為相同的大小。另外,不一定必須使受光面整體都位于第2開口部內,只要至少受光面的一部分位于第2開口部內即可。另外,遮光層例如可以設于在圖2、圖17、圖18中表示為BM的位置。
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