[發明專利]基于多次聚焦的噪音壓制與成像方法

有效

• 申請號: 201210097757.8
• 申請日: 2012-04-05
• 公開（公告）號: CN102636810A
• 公開（公告）日: 2012-08-15
• 發明（設計）人: 張金淼;陳寶書;汪小將;肖志波;曹向陽;楊鍇
• 申請（專利權）人: 中國海洋石油總公司;中海油研究總院
• 主分類號: G01V1/28
• 分類號: G01V1/28;G01V1/36
• 代理公司: 北京紀凱知識產權代理有限公司 11245
• 代理人: 徐寧;關暢

1.一種基于多次聚焦的噪音壓制與成像方法，其特征在于：它包括如下步驟：

1)利用處理系統提供的分選功能將預處理之后的地震數據分選為共偏移距道集；

2)基于共偏移距道集實施多次聚焦屬性參數搜索，得到能夠描述地震波局部特征的屬性參數；

3)基于上述屬性參數構造多次聚焦局部反射線段；

4)基于多次聚焦局部反射線段構造等旅行時面的多次聚焦算子響應；

5)共偏移距剖面內所有的多次聚焦算子響應累加構成多次聚焦處理后數據體；

6)將多次聚焦處理后數據體進行共中心點疊加，得到多次聚焦零偏移距成像剖面。

2.如權利要求1所述的基于多次聚焦的噪音壓制與成像方法，其特征在于：所述屬性參數二維時是兩個參數：出射角和曲率；三維時是三個參數：出射角、方位角和曲率。

3.如權利要求1或2所述的基于多次聚焦的噪音壓制與成像方法，其特征在于：搜索所述屬性參數方式為，二維情形下，基于雙曲型局部時距方程，利用疊加能量最大原則，首先搜索二維剖面內每一個樣點的反射同相軸的局部曲率信息，然后搜索二維剖面內每一個樣點的反射同相軸的局部出射角信息；三維情形下，采用同樣方式搜索三維共偏移距剖面內每一個樣點的反射同相軸的局部曲率信息，然后搜索三維剖面內每一個樣點處的局部角度信息，包括出射角和方位角。

4.如權利要求1所述的基于多次聚焦的噪音壓制與成像方法，其特征在于：構造多次聚焦局部反射線段的方法是：將屬性參數代入雙曲型時距方程，就可構造多次聚焦局部反射線段。

5.如權利要求1所述的基于多次聚焦的噪音壓制與成像方法，其特征在于：所述多次聚焦算子響應就是基于多次聚焦局部反射線段構造的MZO響應。

6.如權利要求1所述的基于多次聚焦的噪音壓制與成像方法，其特征在于：共偏移距剖面內所有的多次聚焦算子響應累加構成多次聚焦處理后數據體，累加方式是：對于非零偏移距剖面內的每一個樣點，構造相應的等旅行時面，所有樣點的等旅行時面的疊加結果構成多次聚焦零偏移距成像剖面。