[發(fā)明專利]一種常壓等離子體自由基清洗系統(tǒng)無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210097143.X | 申請日： | 2012-04-05 |
| 公開（公告）號： | CN103357619A | 公開（公告）日： | 2013-10-23 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 王守國;賈少霞;趙玲利;楊景華 | 申請（專利權(quán)）人： | 中國科學(xué)院微電子研究所 |
| 主分類號： | B08B7/00 | 分類號： | B08B7/00;H05H1/24;H05H1/46 |
| 代理公司： | 暫無信息 | 代理人： | 暫無信息 |
| 地址： | 100029 *** | 國省代碼： | 北京;11 |
| 權(quán)利要求書： | 查看更多 | 說明書： | 查看更多 |
| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 常壓 等離子體 自由基 清洗 系統(tǒng) | ||
1.一種常壓等離子體自由基清洗系統(tǒng)，包括一臺中頻等離子體發(fā)生器、一臺射頻等離子體發(fā)生器、吸片裝置、電源系統(tǒng)、移動機(jī)械臂、進(jìn)氣系統(tǒng)以及抽氣泵，其特征在于：系統(tǒng)同時采用一臺中頻等離子體發(fā)生器和一臺射頻等離子體發(fā)生器作為等離子體源，工作氣體在流量計的控制下分別進(jìn)入到兩臺等離子體發(fā)生器中，吸片裝置固定在一維移動機(jī)械臂上，電源接通過后，兩臺等離子體發(fā)生器向上噴出自由基束流，吸盤裝置吸附著硅片，在機(jī)械臂的帶動下，從等離子體發(fā)生器噴口的上方掃過，進(jìn)行硅片去膠清洗，硅片與兩臺等離子體發(fā)生器噴口的距離均為0.5～2.5mm。
2.如權(quán)利要求1所述的常壓等離子體自由基清洗系統(tǒng)，其特征在于：等離子體發(fā)生器包括一臺中頻等離子體發(fā)生器和一臺射頻等離子體發(fā)生器，中頻等離子體發(fā)生器包括一個高壓電極和兩個地電極，高壓電極由石英或陶瓷等介質(zhì)阻擋層包覆，從中頻等離子體發(fā)生器噴口噴出的自由基能量較高，用于進(jìn)行硅片光刻膠預(yù)清洗，射頻等離子體發(fā)生器包括一個射頻電極和兩個地電極，射頻電極由陶瓷或石英等介質(zhì)阻擋層包覆，從射頻等離子體發(fā)生器噴口噴出的自由基能量相對較低，用于進(jìn)行硅片光刻膠精細(xì)清洗。
3.如權(quán)利要求1所述的常壓等離子體自由基清洗系統(tǒng)，其特征在于：電源系統(tǒng)包括一臺中頻電源(頻率范圍為15-40kHz)和一臺射頻電源(頻率為13.56MHz)，中頻電源與中頻等離子體發(fā)生器連接，射頻電源和射頻等離子體發(fā)生器連接。?
4.如權(quán)利要求1所述的常壓等離子體自由基清洗系統(tǒng)，其特征在于：吸片裝置具有吸附硅片的功能，同時還具有加熱硅片的功能(硅片溫度范圍在150-250℃)，吸片裝置在一維機(jī)械臂的帶動下，依次通過中頻等離子體發(fā)生器放電區(qū)域和射頻等離子體發(fā)生器放電區(qū)域。?
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