[發明專利]一種便捷、高效提高氧化石墨層間距的方法無效

申請號：	201210096806.6	申請日：	2012-04-05
公開（公告）號：	CN102602921A	公開（公告）日：	2012-07-25
發明（設計）人：	徐志偉;陳磊;張瑤瑤;郭啟微;陳光偉;王春紅;錢曉明	申請（專利權）人：	天津工業大學
主分類號：	C01B31/04	分類號：	C01B31/04;B82Y40/00
代理公司：	天津才智專利商標代理有限公司 12108	代理人：	龐學欣
地址：	300387 ***	國省代碼：	天津;12
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摘要：
搜索關鍵詞：	一種便捷高效提高氧化石墨間距方法
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【權利要求書】：

1.一種便捷、高效提高氧化石墨層間距的方法，其特征在于：所述的便捷、高效提高氧化石墨層間距的方法是將氧化石墨置于⁶⁰Co的輻照源室內，然后在輻照劑量率為0.6×10³Gy/h～6×10³Gy/h，輻照劑量為1×10⁵Gy～2×10⁶Gy的條件下對其進行γ射線輻照，輻照時間為16～3000小時，使氧化石墨的表面剝離而形成石墨烯納米片。

2.根據權利要求1所述的便捷、高效提高氧化石墨層間距的方法，其特征在于：所述的輻照處理溫度為0-80℃。

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