[發明專利]一種超潤濕性褶皺孔槽狀二氧化鈦薄膜的制備工藝有效
| 申請號： | 201210096780.5 | 申請日： | 2012-03-31 |
| 公開（公告）號： | CN102605411A | 公開（公告）日： | 2012-07-25 |
| 發明（設計）人： | 齊民;王偉強;劉振飛 | 申請（專利權）人： | 大連理工大學 |
| 主分類號： | C25D11/26 | 分類號： | C25D11/26;A61L27/30;A61L27/06 |
| 代理公司： | 大連星海專利事務所 21208 | 代理人： | 花向陽 |
| 地址： | 116024 遼*** | 國省代碼： | 遼寧;21 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關鍵詞： | 一種 潤濕 褶皺 孔槽狀二 氧化 薄膜 制備 工藝 | ||
【權利要求書】：
1.一種超潤濕性褶皺孔槽狀二氧化鈦薄膜的制備工藝，其特征在于，所述制備工藝采用的步驟如下：
(1)對純鈦基體的清潔處理
制取樣品，用砂紙打磨工作面，超純水清洗，高純丙酮超聲清洗，冷風吹干；
(2)微弧氧化
對清潔處理的純鈦表面進行微弧氧化，所采用的電源為雙極性脈沖微弧氧化電源；純鈦表面為陽極，不銹鋼片為陰極，將陽極和陰極放入電解液中，電解液的溫度保持在35℃以下，在兩極之間加以直流脈沖電壓，其電壓為360～500V，電流密度為1～4A/dm2，脈沖頻率為400～700Hz，占空比為10％～30％，氧化時間為6～20分鐘，獲得具有超潤濕能力的褶皺孔槽狀高純度金紅石相二氧化鈦薄膜。
2.根據權利要求1所述的一種超潤濕性褶皺孔槽狀二氧化鈦薄膜的制備工藝，其特征在于：所述電解液采用在1000g去離子水中加入0.07～1.2mol四硼酸鈉。
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