[發(fā)明專利]具有遮擋板裝置的反應(yīng)器有效
| 申請(qǐng)?zhí)枺?/td> | 201210096716.7 | 申請(qǐng)日: | 2012-04-01 |
| 公開(kāi)(公告)號(hào): | CN102618845A | 公開(kāi)(公告)日: | 2012-08-01 |
| 發(fā)明(設(shè)計(jì))人: | 何乃明;李可 | 申請(qǐng)(專利權(quán))人: | 中微半導(dǎo)體設(shè)備(上海)有限公司 |
| 主分類號(hào): | C23C16/44 | 分類號(hào): | C23C16/44 |
| 代理公司: | 北京集佳知識(shí)產(chǎn)權(quán)代理有限公司 11227 | 代理人: | 駱蘇華 |
| 地址: | 201201 上海市浦東新*** | 國(guó)省代碼: | 上海;31 |
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| 摘要: | |||
| 搜索關(guān)鍵詞: | 具有 遮擋 裝置 反應(yīng)器 | ||
1.一種具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,包括:
反應(yīng)腔室,所述反應(yīng)腔室包括位于側(cè)壁的開(kāi)口和位于底部的基座,所述開(kāi)口用于放入或取出基片,所述基座用于放置所述基片;
位于所述反應(yīng)腔室內(nèi)的遮擋板裝置,所述遮擋板裝置圍繞所述基座上方的反應(yīng)區(qū)域,且在基片放入反應(yīng)腔室后或者在取出基片后屏蔽所述開(kāi)口;
其特征在于,所述遮擋板裝置包括多個(gè)部件,且至少一個(gè)為可動(dòng)部件,所述可動(dòng)部件具有第一位置和第二位置,其中第一位置與開(kāi)啟的所述開(kāi)口相對(duì)應(yīng),使開(kāi)口和基座之間形成基片移動(dòng)的通路;
其中所述遮擋板裝置內(nèi)部設(shè)置有水槽,所述水槽包括位于一端的進(jìn)水口和位于另一端的出水口,一冷卻裝置通過(guò)水管與所述水槽的進(jìn)水口和出水口相連。
2.如權(quán)利要求1所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,所述可動(dòng)部件的特征尺寸大于等于所述開(kāi)口的寬度。
3.如權(quán)利要求1所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,所述遮擋板裝置為圓柱形。
4.如權(quán)利要求3所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,所述可動(dòng)部件沿所述遮擋板裝置的軸線方向移動(dòng)。
5.如權(quán)利要求3所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,所述可動(dòng)部件沿所述遮擋板裝置的圓周方向移動(dòng)。
6.如權(quán)利要求1所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,所述遮擋板裝置包括第一部件和第二部件,所述第一部件為可動(dòng)部件,所述第二部件固定于所述反應(yīng)腔室內(nèi)。
7.如權(quán)利要求6所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,所述第一部件與所述第二部件相接觸的邊緣、內(nèi)壁或外壁具有第一定位部,所述第二部件與所述第一部件相對(duì)應(yīng)處具有第二定位部,所述第一定位部和第二定位部相配合,用于第一部件在第一位置和第二位置間移動(dòng)。
8.如權(quán)利要求7所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,所述第一定位部為凸起,所述第二定位部為與所述凸起相對(duì)應(yīng)的溝槽;或者所述第一定位部為溝槽,所述第二定位部為與所述溝槽相對(duì)應(yīng)的凸起。
9.如權(quán)利要求1所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,還包括:驅(qū)動(dòng)裝置,所述驅(qū)動(dòng)裝置與所述可動(dòng)部件相連,用于驅(qū)動(dòng)所述可動(dòng)部件在第一位置和第二位置間移動(dòng)。
10.如權(quán)利要求1所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,所述遮擋板裝置的多個(gè)部件分別通過(guò)多個(gè)連接柱與反應(yīng)腔室頂壁向連接。
11.如權(quán)利要求10所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,所述冷卻裝置與所述遮擋板裝置內(nèi)水槽連接的水管位于所述連接柱內(nèi)。
12.如權(quán)利要求11所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,所述水管為不銹鋼材質(zhì)。
13.如權(quán)利要求1所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,所述反應(yīng)器應(yīng)用于化學(xué)氣相沉積反應(yīng)。
14.如權(quán)利要求13所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,所述化學(xué)氣相沉積反應(yīng)為金屬有機(jī)化合物化學(xué)氣相沉積反應(yīng)。
15.如權(quán)利要求1所述的具有遮擋板裝置的反應(yīng)器,其特征在于,還包括:驅(qū)動(dòng)裝置,所述驅(qū)動(dòng)裝置與所述可動(dòng)部件相連,用于驅(qū)動(dòng)所述可動(dòng)部件移動(dòng),使所述多個(gè)部件具有不同高度的下邊沿。
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C23C 對(duì)金屬材料的鍍覆;用金屬材料對(duì)材料的鍍覆;表面擴(kuò)散法,化學(xué)轉(zhuǎn)化或置換法的金屬材料表面處理;真空蒸發(fā)法、濺射法、離子注入法或化學(xué)氣相沉積法的一般鍍覆
C23C16-00 通過(guò)氣態(tài)化合物分解且表面材料的反應(yīng)產(chǎn)物不留存于鍍層中的化學(xué)鍍覆,例如化學(xué)氣相沉積
C23C16-01 .在臨時(shí)基體上,例如在隨后通過(guò)浸蝕除去的基體上
C23C16-02 .待鍍材料的預(yù)處理
C23C16-04 .局部表面上的鍍覆,例如使用掩蔽物的
C23C16-06 .以金屬材料的沉積為特征的
C23C16-22 .以沉積金屬材料以外之無(wú)機(jī)材料為特征的
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