[發明專利]染料敏化太陽能電池中碳對電極的制備方法

有效

• 申請號: 201210094885.7
• 申請日: 2012-03-31
• 公開（公告）號: CN102592842A
• 公開（公告）日: 2012-07-18
• 發明（設計）人: 方國家;曾瑋;陶洪;王靜
• 申請（專利權）人: 武漢大學
• 主分類號: H01G9/042
• 分類號: H01G9/042;H01G9/20;H01M14/00;H01L51/48
• 代理公司: 武漢科皓知識產權代理事務所(特殊普通合伙) 42222
• 代理人: 汪俊鋒

1.一種染料敏化太陽能電池中對電極的的制備方法，其特征在于，包括如下步驟：

1）基底的準備

對基底進行清洗，以除去表面的油脂和雜質；對于可以與染料敏化太陽能電池中電解質反應的基底，在清洗后還要沉積不低于50nm厚的鎳或鈦作為保護層；?

2）溶液的配制和涂敷

溶解過渡金屬的一種或多種鹽，并在溶液中添加十二烷基硫酸鈉，溶液中十二烷基硫酸鈉與過渡金屬正離子的摩爾比為(0.004～0.008):1；將配好的溶液涂敷在基底上，然后自然風干，重復涂敷，風干后涂敷層的厚度為200nm～2μm；

3）酒精燈加熱

將基底置于酒精燈火焰中，加熱10秒～10分鐘。

2.根據權利要求1所述的制備方法，其特征在于，所采用的基底為平面狀或網狀固體。

3.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，沉積保護層的方法為電鍍或磁控濺射。

4.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，涂敷過渡金屬溶液的方法為旋涂法、提拉法或刮涂法。

5.根據權利要求1或2所述的制備方法，其特征在于，還包括在1）準備好的基底上先后沉積錫層、鎳層，其中錫膜厚度為20nm～230nm，鎳膜厚度為10nm～840nm。

6.根據權利要求5所述的制備方法，其特征在于，在1）準備好的基底上沉積錫層、鎳層的方法為電鍍或磁控濺射。