[發明專利]光學特性測量裝置有效
| 申請號: | 201210094553.9 | 申請日: | 2012-04-01 |
| 公開(公告)號: | CN102735427A | 公開(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發明(設計)人: | 安藤利典 | 申請(專利權)人: | 佳能株式會社 |
| 主分類號: | G01M11/02 | 分類號: | G01M11/02 |
| 代理公司: | 中國國際貿易促進委員會專利商標事務所 11038 | 代理人: | 康建忠 |
| 地址: | 日本*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 光學 特性 測量 裝置 | ||
1.一種光學特性測量裝置,該光學特性測量裝置在通過被檢測的光學系統導致的物體的像面的附近的多個評估面上獲取與被檢測的光學系統的圖像特性有關的測量值,并且基于各測量值測量被檢測的光學系統的光學特性,該光學特性測量裝置包括:
測量值校正單元,該測量值校正單元校正所述多個評估面上的與通過被檢測的光學系統導致的射束的線擴散分布和點擴散分布中的一個的寬度或光強度有關的測量值,其中,
在測量值與射束的線擴散分布和點擴散分布中的一個的寬度有關的情況下,所述像面被視為評估基準面,并且,測量值校正單元輸出校正值,使得當評估面與評估基準面相比接近被檢測的光學系統時,測量值根據接近量增加,并且當評估面與評估基準面相比移動離開被檢測的光學系統時,測量值根據移動離開量減??;
在測量值與射束的線擴散分布和點擴散分布中的一個的光強度有關的情況下,所述像面被視為評估基準面,并且,測量值校正單元輸出校正值,使得當評估面與評估基準面相比接近被檢測的光學系統時,測量值根據接近量減小,并且,當評估面與評估基準面相比移動離開被檢測的光學系統時,測量值根據移動離開量增加,并且,
基于與測量值相比具有提高的對稱性的校正值測量被檢測的光學系統的光學特性。
2.根據權利要求1的裝置,其中,測量值校正單元根據被檢測的光學系統的出射光瞳與所述評估面之間的距離輸出校正值。
3.根據權利要求2的裝置,其中,被檢測的光學系統是包含在相互正交的第一方向和第二方向上在不同的位置處的出射光瞳的變形光學系統,并且,測量值校正單元輸出在第一方向和第二方向上不同的校正值。
4.根據權利要求1的裝置,其中,在測量值與射束的線擴散分布和點擴散分布中的一個的寬度有關、測量值是Do、被檢測的光學系統的出射光瞳與所述像面之間的距離為K、被檢測的光學系統的出射光瞳與所述評估面之間的距離為L、并且校正之后的校正值為D的情況下,滿足下式:
D=(K/L)×Do。
5.根據權利要求1的裝置,其中,在測量值與射束的線擴散分布和點擴散分布中的一個的光強度有關、測量值是Do、被檢測的光學系統的出射光瞳與所述像面之間的距離為K、被檢測的光學系統的出射光瞳與評估面之間的距離為L、并且校正之后的校正值為D的情況下,滿足下式:
D=(L/K)×Do。
6.根據權利要求1的裝置,其中,在測量值與射束的線擴散分布和點擴散分布中的一個的光強度有關、測量值是Do、被檢測的光學系統的出射光瞳與所述像面之間的距離為K、被檢測的光學系統的出射光瞳與評估面之間的距離為L、并且校正之后的校正值為D的情況下,滿足下式:
D=(L×L/K)×Do。
7.根據權利要求1的裝置,其中,在測量值與射束的線擴散分布和點擴散分布中的一個的光強度有關、測量值是Do、被檢測的光學系統的出射光瞳與所述像面之間的沿第一方向的距離和被檢測的光學系統的出射光瞳與所述像面之間的沿第二方向的距離的乘積為Kyz、被檢測的光學系統的出射光瞳與評估面之間的沿第一方向的距離為Ly、被檢測的光學系統的出射光瞳與評估面之間的沿第二方向的距離為Lz、并且校正之后的校正值為D的情況下,滿足下式:
D=(Ly×Lz/Kyz)×Do。
8.根據權利要求1的裝置,其中,物體是光源。
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