[發(fā)明專利]一種介孔二氧化鈦薄膜的制備方法無效
| 申請?zhí)枺?/td> | 201210094222.5 | 申請日： | 2012-04-01 |
| 公開（公告）號： | CN102586836A | 公開（公告）日： | 2012-07-18 |
| 發(fā)明（設(shè)計）人： | 周幸福;邵長林;陳潔;柴青立 | 申請（專利權(quán)）人： | 南京工業(yè)大學(xué) |
| 主分類號： | C25D11/26 | 分類號： | C25D11/26 |
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| 地址： | 210009 江*** | 國省代碼： | 江蘇;32 |
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| 摘要： | |||
| 搜索關(guān)鍵詞： | 一種 介孔二 氧化 薄膜 制備 方法 | ||
1.一種介孔二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于，將處理過的金屬鈦作為陽極，陰極材料不限，在含有HF的電解液中陽極氧化5～100分鐘，取出烘干，放到馬弗爐里經(jīng)過熱處理，即可在金屬鈦表面得到一層孔徑可控，尺寸均一的介孔二氧化鈦薄膜。
2.如權(quán)利要求1所述的一種介孔二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于，所說的金屬鈦為鈦片、鈦網(wǎng)或鈦絲等任意形狀的金屬鈦。
3.如權(quán)利要求1所述的一種介孔二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于，所說的含HF的電解液，是指由HF，其他酸或鹽，以及溶劑共同組成的溶液。
4.如權(quán)利要求3所述的其他酸或鹽，其特征在于，其他酸包括無機(jī)酸，例如H2SO4，HCl，以及醋酸，乙二酸等有機(jī)酸；鹽是指氟化氨、氟化鈉等鹽。
5.如權(quán)利要求3所述的溶劑，可以是H2O，也可以是乙二醇等醇溶劑。
6.如權(quán)利要求3所述的含HF的電解液，其特征在于，電解液組分的比例為：HF∶其他酸或鹽∶溶劑＝1∶X∶Y，其中，X為1～50，Y為20～150。
7.如權(quán)利要求1所述的一種介孔二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于，所說處理過的金屬鈦是指，金屬鈦經(jīng)過洗潔精、乙醇、去離子水等超聲洗滌除去表面油污，然后經(jīng)酸刻蝕處理，然后用去離子水沖洗干凈，烘干備用。
8.如權(quán)利要求1所述的一種介孔二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于，電極的極間距為0.5～10cm，升壓速率為1～10V/min，恒定電解電壓為5～80V。
9.如權(quán)利要求1所述的一種介孔二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于，熱處理溫度為300～900℃，熱處理時間為1～10h。
10.如權(quán)利要求1所述的一種介孔二氧化鈦薄膜的制備方法，其特征在于，不同孔徑和膜厚的介孔二氧化鈦薄膜可通過控制X、Y的值，陽極氧化電壓及氧化時間獲得。
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