[發明專利]有機性排水的處理裝置

無效

• 申請號: 201210094214.0
• 申請日: 2012-03-29
• 公開（公告）號: CN102730902A
• 公開（公告）日: 2012-10-17
• 發明（設計）人: 小松和也
• 申請（專利權）人: 栗田工業株式會社
• 主分類號: C02F9/14
• 分類號: C02F9/14;C02F3/30;C02F1/44
• 代理公司: 隆天國際知識產權代理有限公司 72003
• 代理人: 崔香丹;張永康

技術領域

本發明涉及一種將對有機性排水進行過厭氧處理接著進行過好氧處理后的處理液通過膜進行固液分離的生物處理裝置，尤其是涉及一種適于有機性排水為從液晶顯示器或半導體制造工廠排出的且全部有機物中碳原子數4以下的有機物的比例為70％以上的情形的有機性排水的處理裝置。

背景技術

在液晶顯示器或半導體制造工廠等電子產業工廠中，會排出含有單乙醇胺、四甲基氫氧化銨、二甘醇單N-丁基醚、異丙醇等的在加工工序中作為洗凈劑、剝離劑等使用的特定的低分子有機物的排水。以往，在適用厭氧處理的食品、飲料工廠等的含有淀粉、糖、蛋白質等的高分子有機物的排水中，多數情況下，在分解過程中生成的各種慢分解性成分的一部分會殘存在處理水中，但是，在電子產業工廠排水中所含的低分子有機物不生成慢分解性的中間體，而迅速分解成醋酸、甲烷。因此，在電子產業工廠排水的厭氧處理中，即使對于BOD?300～500mg/L左右的排水也能夠以95％以上的高除去率進行處理，在處理液中有機物濃度顯著變低(BOD?20mg/L以下)。

作為對如此的來自半導體工廠等的有機性排水進行生物處理的裝置，已知有對有機性排水進行厭氧處理后，進行好氧處理，接下來進行固液分離的裝置(專利文獻1，2)。在專利文獻2中，將膜配置在硝化槽內。

厭氧處理中，成為膜污染的原因的代謝產物的生成比好氧處理少，因此，如上所述地，進行厭氧→好氧→膜分離的加工處理，與對原水直接進行好氧處理然后進行膜分離的情況相比，膜污染減小，能夠減少膜的藥品洗凈頻率。此外，由于進行厭氧處理，因此還有污泥產生量減小、曝氣空氣量減小的效果。

對生物處理液進行膜分離處理的分離膜模件中，有使膜模件浸漬于曝氣槽內并吸取過濾水的浸漬型、和將槽內污泥循環至設于曝氣槽外的膜模件并吸取處理水的槽外設置型，其中，槽外設置型使污泥以高流速循環到膜模件內，因此，與浸漬型相比，一般會增多動力成本，因此，如專利文獻2所示浸漬型得到廣泛普及。

現有技術文獻

專利文獻

專利文獻1：日本特開2007-175582號公報

專利文獻2：日本特開2006-305555號公報

發明內容

如上所述，電子產業工廠排水的厭氧處理中，即使對BOD?300～500mg/L左右的排水也能夠以95％以上的高除去率進行處理，在處理液中有機物濃度顯著變低(BOD?20mg/L以下)。因此，當作為電子產業排水的厭氧處理的后級的膜分離模件采用浸漬型時，為了確保使膜模件浸漬的空間，曝氣槽容量變大，好氧處理槽以極低的BOD負荷及槽內污泥濃度運轉。

具有浸漬型膜模件的好氧處理槽內的污泥濃度低至2,000mg/L以下時，不會在膜表面形成過濾濾餅層，相反變得容易堵塞，除此之外，在減少污泥的取出量將SRT過度地變長的情況下，污泥分散化而易堵塞。如此地，在電子產業排水的厭氧處理的后級設計的具有浸漬型膜模件的好氧處理槽中，存在膜污染劇烈、洗凈頻率增加的問題。

本發明的目的在于提供一種排水處理裝置，其通過厭氧處理槽對有機性排水進行厭氧處理，并通過好氧處理槽對厭氧處理槽的處理液進行好氧處理，并用膜分離模件進行固液分離而獲得處理水，其能夠抑制膜分離模件的膜污染，減少洗凈頻率。

第1發明(技術方案1)的有機性排水的處理裝置，其通過厭氧處理槽對有機性排水進行厭氧處理，并通過好氧處理槽對厭氧處理槽的處理液進行好氧處理，并用膜分離模件進行固液分離而獲得處理水，其特征在于，膜分離模件是槽外設置型膜分離模件。

在第1發明中，優選所述有機性排水中的全部有機物中碳原子數4以下的有機物的比例是70％以上。

在第1發明中，優選所述有機性排水是從液晶顯示器或半導體制造工廠排出的有機性排水。

第1發明中，有機性排水的處理裝置通過厭氧處理槽對有機性排水進行厭氧處理，并通過好氧處理槽對厭氧處理槽的處理液進行好氧處理，并用膜分離模件進行固液分離而獲得處理水，其中，該膜分離模件是槽外設置型膜分離模件。由此，好氧處理槽容積不會受到膜的設置空間的影響，能夠在膜污染少的適當條件下運轉好氧處理槽的BOD負荷、污泥濃度、SRT，膜洗凈頻率變少。

第2發明(技術方案4)的有機性排水的處理裝置，其通過厭氧處理槽對有機性排水進行厭氧處理，并通過好氧處理槽對厭氧處理槽的處理液進行好氧處理，并用膜分離模件進行固液分離而獲得處理水，其特征在于，在該好氧處理槽中具有添加厭氧處理液以外的有機物的設備。

在第2發明中，優選所述有機性排水中的全部有機物中碳原子數4以下的有機物的比例是70％以上。