[發明專利]像素圖案的形成方法、濾色片和顯示元件有效
| 申請號: | 201210094140.0 | 申請日: | 2012-03-29 |
| 公開(公告)號: | CN102736408A | 公開(公告)日: | 2012-10-17 |
| 發明(設計)人: | 竹村彰浩;大喜多健三 | 申請(專利權)人: | JSR株式會社 |
| 主分類號: | G03F7/00 | 分類號: | G03F7/00;G03F7/004;G02B5/20;G02F1/1335 |
| 代理公司: | 北京三幸商標專利事務所 11216 | 代理人: | 劉激揚 |
| 地址: | 日本國*** | 國省代碼: | 日本;JP |
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| 摘要: | |||
| 搜索關鍵詞: | 像素 圖案 形成 方法 濾色片 顯示 元件 | ||
技術領域
本發明涉及像素圖案的形成方法、由該方法制造的濾色片以及具有該濾色片的顯示元件。
背景技術
濾色片可使可見光內特定波長區域的光透過,生成著色的透過光。使用了液晶的液晶顯示元件雖然其自身無法顯色,但是通過使用濾色片,可以作為彩色液晶顯示元件而起到功能。另外,濾色片還能用于使用了白色發光層的有機EL(電致發光)元件或者電子紙等的彩色顯示中。此外,如果利用濾色片,還能進行CCD圖像傳感器、CMOS圖像傳感器等固體攝像元件的彩色攝影。
作為濾色片的制造方法,已知如下方法。例如,在透明襯底上或在形成了所希望的圖案的遮光層的透明襯底上,涂布著色放射線敏感性組合物來作為感應適當的照射線的著色組合物。接著,干燥涂膜后,通過掩模對干燥涂膜照射放射線(以下,稱作“曝光”),進行顯影處理。是通過這種步驟得到各色像素的方法(例如,參照專利文獻1和2)。另外,還已知使用著色固化性樹脂組合物,通過噴墨方式得到各色像素的方法等(例如,參照專利文獻3)。
還有,為了實現顯示元件的高亮度化和高色純度化,或者固體攝像元件的高精度化,已知使用染料或色淀顏料作為著色劑是有效的(例如,參照專利文獻4和5)。
【現有技術文獻】
【專利文獻】
【專利文獻1】日本特開平2-144502號公報
【專利文獻2】日本特開平3-53201號公報
【專利文獻3】日本特開2000-310706號公報
【專利文獻4】日本特開2008-304766號公報
【專利文獻5】日本特開2001-081348號公報
發明內容
然而,含有染料或色淀顏料的著色放射線敏感性組合物,與只含顏料的著色放射線敏感性組合物相比,色度性質的工藝穩定性明顯變差。因此,即使使用染料或色淀顏料作為著色劑,最終也會有難以得到對顏料在色度性質上具有優越性的濾色片這樣的問題。
本發明是根據上述這種問題而提出。即,本發明的目的在于提供在使用染料或色淀顏料作為著色劑時,為了充分顯現出染料或色淀顏料的優異的色度性質的像素圖案的形成方法,由該方法形成的濾色片,以及具有該濾色片、色度性質優異的顯示元件。
本發明人等經過認真研究,從而發現通過在形成像素圖案時,使用特定的紫外線作為曝光放射線,可以解決上述問題。
也就是,本發明提供一種像素圖案形成方法,其特征在于:包括(1)在襯底上形成著色放射線敏感性組合物的涂膜的工序,該組合物包含從由染料和色淀顏料構成的群組中選出的至少一種,以及(2)用放射線照射前述涂膜的至少一部分的工序;前述放射線的分光分布在350nm~450nm的范圍內具有多個峰,而且前述放射線不到350nm時的最大強度為350nm~450nm中的最大峰強度的50%以下。另外,在下文中,將“分光分布在350nm~450nm的范圍內具有多個峰,而且不到350nm時的最大強度為350nm~450nm中的最大峰強度的50%以下的放射線”稱作“特定放射線”。
另外,本發明提供具有由上述方法形成的像素圖案而形成的濾色片,以及具有該濾色片的顯示元件。
根據本發明,在使用染料或色淀顏料作為著色劑時,可以制造充分發揮出染料或色淀顏料的優異的色度性質的濾色片。
附圖說明
圖1是表示從超高壓水銀燈放射的放射線具有代表性的分光分布的圖。
圖2表示從超高壓水銀燈放射的放射線通過紫外線截止濾光片1得到的放射線的分光分布的圖。
圖3表示從超高壓水銀燈放射的放射線通過紫外線截止濾光片2得到的放射線的分光分布的圖。
圖4表示從超高壓水銀燈放射的放射線通過紫外線截止濾光片3得到的放射線的分光分布的圖。
具體實施方式
以下,對本實施方案進行詳細說明。
<像素圖案的形成方法以及濾色片>
本發明的像素圖案形成方法的特征在于至少包括下述(1)和(2)的工序。
(1)在襯底上形成著色放射線敏感性組合物的涂膜的工序,該組合物包含從由染料和色淀顏料構成的群組中選出的至少一種(以下,稱作“涂膜形成工序”)。
(2)用特定放射線曝光前述涂膜的至少一部分曝光的工序(以下,稱作“曝光工序”)。
在下文,對(1)和(2)的各個工序舉出具體例子,進行詳細說明。
(1)涂膜形成工程
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